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텔 알파 8S 수직 확산로

TEL ALPHA 8S 수직 확산로는 웨이퍼 배치 산화, 확산 및 어닐링에 사용됩니다. 웨이퍼 크기, 용광로 구성 및 공정 호환성을 확인하십시오.

TEL ALPHA 8S Vertical Diffusion Furnace 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

TEL ALPHA 8S 수직 확산로는 열 산화, 어닐링 및 확산과 같은 고온 공정을 위해 반도체 웨이퍼를 배치 방식으로 처리합니다. 수직형 구조 덕분에 제어된 공정 환경 내에서 여러 웨이퍼를 동일한 열 사이클을 거치게 할 수 있습니다.

로 영역 전체의 온도 균일성, 가스 유량 제어 및 웨이퍼 간격은 모두 공정 일관성에 영향을 미칩니다. ALPHA 8S 플랫폼은 다양한 구성으로 공급되었으며, 설치된 로 튜브, 히터, 가스 공급 시스템 및 제어 하드웨어에 따라 사용 가능한 공정 레시피가 결정되었습니다.

중고 TEL ALPHA 8S를 선택하기 전에 특정 공정 구성, 지원되는 웨이퍼 크기, 퍼니스 튜브 상태 및 가스 시스템 설정을 확인하십시오. 이러한 세부 사항은 해당 장비가 필요한 산화, 확산 또는 어닐링 공정에 적합한지 여부를 결정합니다.

텔 알파 8S 주요 사양

제조업체도쿄 전자 유한회사
상표전화
모델알파 8S
장비 유형수직 배치 확산 및 열처리로
지원되는 웨이퍼 크기공개된 목록에 따르면 150mm 및 200mm 웨이퍼입니다.
웨이퍼 가공일괄 열처리
공개된 공정 신청서습식 산화, 건식 산화, 어닐링 및 구성 의존형 LPCVD
실제 프로세스 구성설치된 노관, 가스 패널, 석영 기구 및 레시피 확인 후 적용됩니다.
상태중고 반도체 장비
유효성현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다.

TEL ALPHA 8S vertical diffusion furnace