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Besi Esec 2100 hS 고속 에폭시 다이 본더

Besi Esec 2100 hS: 최대 18,500 UPH, 액체 냉각 방식, 120ms 사이클 타임, 20µm @ 3σ 표준 정확도(고정밀 모드에서는 15µm). 0.25mm~20mm 다이, 4~12인치 웨이퍼, 90~300mm 리드프레임용 고속 에폭시 다이 본더. 일반적인 패키지 규격으로는 QFN, TSOP, QFP 등이 있습니다.

Besi Esec 2100 hS High-Speed Epoxy Die Bonder 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

Besi Esec 2100 hS 고속 에폭시 다이 본더는 웨이퍼에서 다이를 집어 리드 프레임이나 기판에 에폭시를 도포하고, 표준 모드에서 20µm @ 3σ, 고정밀 모드에서 15µm @ 3σ의 정밀도로 칩을 배치합니다. Y축에 장착된 옵션 액체 냉각 시스템을 통해 최대 시간당 18,500개의 다이를 생산할 수 있으며, 최소 사이클 시간은 120ms입니다. 2100 GENS 시리즈의 첫 번째 모델인 이 플랫폼은 가볍지만 견고한 픽앤플레이스 구조와 고급 궤적 제어 기술을 결합하여 고속 작동 중에도 사이클 시간을 단축하고 정밀도를 유지합니다. 2100 플랫폼에 공통적으로 적용된 동기식 회전 및 선형 모션 시스템인 Phi-Y 아키텍처는 공정 조건이 잘 정의된 주류 반도체 패키지의 장기간 생산에도 처리량과 수율을 안정적으로 유지합니다.

2100 hS는 0.25mm(스몰 다이 키트 사용 시)부터 20mm까지의 다이 크기를 지원하며, 8인치 또는 12인치 웨이퍼 프레임에서 4인치부터 12인치까지의 웨이퍼를 사용할 수 있습니다. 리드프레임 크기는 길이 90mm에서 300mm, 너비 23mm에서 100mm까지입니다. 본딩력은 0.2N에서 20N까지 프로그래밍 가능합니다. 일반적인 적용 분야로는 QFN, TSOP, QFP, BGA, CSP-BGA, SiP-BGA, FBGA 및 LGA와 같은 주류 패키지 제품군이 있으며, 이러한 제품군은 공정이 안정적이고 정밀한 배치보다 생산 연속성이 더 중요합니다.

2100 hS는 2100 제품군의 이전 세대 플랫폼입니다. Besi는 이후 동일한 고속 에폭시 다이 접착 분야를 대상으로 하되, 더욱 정밀한 정밀도(정밀 모드에서 최대 12µm, 상향 시야 모드에서 최대 10µm)와 더 좁은 다이 크기 범위(0.15~8mm)를 제공하는 2100 hS ix를 출시했습니다. hS 자체는 최대 20mm의 다이 크기를 지원하므로 iX 세대의 더욱 정밀한 배치가 필요하지 않은 애플리케이션에 적합합니다.

2100 hS는 성숙한 플랫폼이므로 일반적으로 공통 부품 및 서비스 채널을 이용할 수 있습니다. 다만, 플랫폼의 연식을 고려하여 일부 특수 부품은 재정비 또는 대체 조달이 필요할 수 있습니다. 아래 섹션에서는 먼저 플랫폼의 기술적 기능을 설명하고, 이어서 중고 장비의 구성 및 구매 고려 사항을 다룹니다.

Besi Esec 2100 hS die bonder

주요 사양


매개변수사양
장비 유형고속 에폭시 다이 본더
결합 방식에폭시
사이클 타임120ms (액체 냉각 옵션 포함)
생산력시간당 최대 18,500대
배치 정확도표준 오차 20 µm @ 3σ; 고정밀 모드에서 15 µm @ 3σ
다이 사이즈 범위0.25mm (소형 다이 키트 포함) – 20mm
웨이퍼 크기4인치 ~ 12인치 (8인치 또는 12인치 웨이퍼 프레임 기준)
리드프레임 치수길이 90~300mm, 너비 23~100mm
본드 포스0.2 – 20 N
설치 공간 (가로 × 세로 × 높이)1,785 × 1,448 × 1,400 mm
무게약 1,400kg
전원 공급 장치208~230VAC, 47~63Hz
정격 출력800~1,100 VA
압축 공기최소 5.2바
비어 있는최저 -0.75 바
질소 블로우1.8 – 6 바

2100 hS는 QFN, TSOP, QFP, BGA, CSP-BGA, SiP-BGA, FBGA, LGA 등 주류 패키지 제품군에 적합한 고처리량 에폭시 다이 본더입니다. 공정 조건이 확립되어 있고 지속적인 처리량과 수율이 중요한 생산 환경에 최적화되어 있습니다. 표준 정확도 20µm, 3σ에서 시간당 최대 18,500개의 유닛을 생산할 수 있으며, 고정밀 모드에서는 15µm까지 가능합니다. 이 플랫폼은 2100 hS ix보다 이전 세대 모델이며, 이는 구매자에게 중요한 고려 사항입니다. hS는 최대 20mm의 다이 크기를 지원하여 iX 세대보다 다이 크기 범위는 넓지만, 더 정밀한 정확도 범위를 제공하지는 않습니다. 중고 장비 평가 시에는 액체 냉각 옵션, 정확도 모드 구성, 디스펜싱 모듈 개수, 비전 시스템 세대 등을 꼼꼼히 확인해야 합니다. 공정 조건이 hS의 정확도 및 다이 크기 범위에 부합한다면, 이 플랫폼은 부품 및 서비스 접근성이 용이하여 비용 효율적인 생산 도구로 활용될 수 있습니다.