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파나소닉 PSX307 플라즈마 클리닝 시스템

Panasonic PSX307은 평행판 플라즈마를 이용하여 기판과 웨이퍼를 세척합니다. 아르곤(Ar), 산소(O₂), 또는 혼합 가스를 사용할 수 있습니다. 리프트 장치는 얇고 휘어진 기판 및 후면 부품 PCB를 처리할 수 있습니다. 플라즈마 모니터는 비정상적인 방전을 방지합니다. 시간당 최대 360개의 기판을 처리할 수 있습니다.

Panasonic PSX307 Plasma Cleaning System 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

파나소닉 PSX307 플라즈마 클리닝 시스템은 손상을 최소화하는 방식을 사용합니다. 플라즈마 표면 처리 웨이퍼 및 패키지 기판의 잔류 유기물과 미세 오염 물질을 제거합니다. 플라즈마 처리를 통한 표면 활성화는 다이 본딩 및 언더필 공정에서 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 완제품 패키지의 박리 위험을 줄입니다.

밀폐형 반응 챔버는 배치 전체에 걸쳐 균일한 플라즈마 분포를 유지합니다. 직관적인 레시피 저장 기능과 자동 안전 인터록은 일상적인 작업을 간소화하여 일관된 표면 품질과 안정적인 장기 가동 성능이 요구되는 반도체 패키징 라인에 적합합니다.

Panasonic PSX307 plasma cleaning system

파나소닉 PSX307 기기 정보

제조업체파나소닉
모델PSX307
장비 유형플라즈마 세척 및 표면 처리 시스템
애플리케이션호환 가능한 접착, 코팅 또는 전자 조립 공정 전 표면 준비
상태중고 장비
공정 호환성제품 재질, 오염 정도, 요구되는 결과 및 실제 기계 구성에 따라 결정됩니다.
실제 구성사용 가능한 특정 장비에 따라 확인되었습니다.
납품 범위견적서 및 확정된 장비 목록을 기준으로 합니다.
지원하다초기 고장 진단, 교체 부품 매칭 및 수리 논의
해운수출 포장 및 전 세계 배송