Axcelis GSD200은 반도체 제조, 특히 200mm 웨이퍼에 상당한 도핑량을 요구하는 공정에서 고전류 이온 주입에 사용됩니다. 전력 소자 및 개별 소자 제조에서 이온 주입 조건은 접합 형성, 전기적 특성 및 완성된 소자의 균일성에 영향을 미칩니다.
붕소, 인, 비소는 이 공정 범주에서 흔히 사용되는 도핑 물질이며, 선택되는 도핑 물질과 주입 레시피는 목표 소자 구조에 따라 결정됩니다. 빔 전류, 도즈 정확도, 웨이퍼 방향 및 오염 제어는 모두 공정 결과에 영향을 미칩니다. 배치 처리는 생산 처리량을 높이는 데 도움이 되며, 장비의 실제 구성은 특정 주입 단계에 대한 성능을 결정합니다.
200mm 라인을 유지하는 반도체 제조 시설의 경우, 고선량 이온 주입을 지속하기 위해 GSD200을 검토해 볼 가치가 있습니다. 기존 레시피와의 호환성, 이온 소스 및 빔라인의 상태, 그리고 기술 지원 가능 여부는 중고 장비로서의 가치를 결정하는 중요한 요소입니다.
Axcelis GSD200 주요 사양
| 제조업체 | 액셀리스 테크놀로지스 |
|---|---|
| 모델 | GSD200 |
| 장비 유형 | 배치형 고전류 이온 주입기 |
| 지원되는 웨이퍼 크기 | 제공된 장비 목록에 따르면 150mm와 200mm입니다. |
| 임플란트 전류 등급 | 고전류 |
| 웨이퍼 가공 방법 | 구성에 따라 회전 웨이퍼 디스크 또는 엔드 스테이션 어셈블리를 사용한 배치 임플란트 방식 |
| 이온 소스 | 설치된 소스 유형과 소스 헤드 구성을 확인해야 합니다. |
| 추출 및 빔라인 | 구성에 따라 다릅니다. 전압 범위와 설치된 빔라인 구성 요소를 확인해야 합니다. |
| 도핑 가스 구성 | 가스 박스, 가스 라인 및 승인된 첨가제 종류는 사용 가능한 시스템에서 확인해야 합니다. |
| 웨이퍼 핸들링 | 카세트, 얼라이너, 로봇 및 진공 이송 장치 구성을 검사해야 합니다. |
| 공정 제어 | 레시피, 빔 모니터링 및 선량 제어 구성은 설치된 컨트롤러에 따라 달라집니다. |
| 상태 | 중고 반도체 장비 |
| 유효성 | 현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다. |
