6인치 웨이퍼의 일괄 열처리에는 Thermco 5200이 대표적인 장비입니다. 수평 확산로 산화, 도핑 및 LPCVD 공정에 널리 사용됩니다. 오랜 기간 동안 사용되어 왔습니다. 1100mm 평면 온도 영역 대량 웨이퍼 배치에 걸쳐 안정적인 열 조건을 제공하여 개별 소자 및 전력 반도체 제조에 이상적입니다.
정밀한 가스 공급과 폐쇄 루프 온도 조절 기능이 결합되어 배치 내 변동을 최소화합니다. 다양한 튜브 구성이 가능하여 하나의 플랫폼에서 산화, 확산 및 폴리 증착 공정을 분리할 수 있습니다. 이 시스템은 성숙 노드 제조에 필요한 대용량 배치 처리를 안정적으로 수행합니다.
이 기존 퍼니스 플랫폼은 전 세계적으로 설치 기반이 매우 넓고 예비 부품을 쉽게 구할 수 있습니다. 낮은 유지 관리 비용으로 예측 가능한 열 성능을 제공하므로, 규모 확장을 고려하거나 노후된 열 배치 장비를 교체하려는 공장에 적합한 선택입니다.
써모코 5200 주요 사양
| 제조업체 | 써모코 시스템즈 |
|---|---|
| 모델 | 5200 |
| 장비 유형 | 수평형 다중관 확산로 |
| 최대 기판 크기 | 최대 150mm |
| 플랫폼 튜브 구성 | 설치된 시스템에 따라 2~4개의 공정 튜브가 있습니다. |
| 최대 평탄 영역 | 최대 1,100mm |
| 공개된 작동 범위 | 히터 및 공정 구성에 따라 200~1,350°C |
| 난방 구역 | 독립적으로 제어되는 3개의 용광로 구역 |
| 선택적 램프율 | 적절한 고속 승온 옵션을 사용하면 분당 최대 25°C까지 온도가 상승합니다. |
| 선택 가능한 냉각 속도 | 적절한 급속 냉각 옵션을 사용하면 분당 최대 20°C까지 냉각 가능합니다. |
| 공정 제어 | 써모코(Thermco) 난방기 제어 시스템; 설치된 컨트롤러 버전을 확인해야 합니다. |
| 상태 | 중고 반도체 장비 |
| 유효성 | 현재 재고 상황, 튜브 구성 및 검사 확인 결과에 따라 변동될 수 있습니다. |
