Với yêu cầu cao về độ sạch của tấm wafer, TEL CELLESTA™-i MD nổi bật như một giải pháp làm sạch wafer đơn đáng tin cậy cho wafer 300mm, nhờ hiệu suất vượt trội của nó.
Hệ thống làm sạch wafer đơn TEL CELLESTA-i MD 300mm có khả năng xử lý nhiều nhiệm vụ làm sạch trước và sau khi khắc. Sử dụng công nghệ cung cấp hóa chất được kiểm soát chính xác, hệ thống loại bỏ hiệu quả các hạt và chất gây ô nhiễm kim loại trong khi vẫn bảo toàn được các mẫu wafer mỏng manh. Được thiết kế cho các nhà máy sản xuất bán dẫn tiên tiến quy mô lớn, nền tảng này đảm bảo năng suất ổn định và tỷ lệ lỗi cực thấp. Cấu hình công thức quy trình linh hoạt của nó dễ dàng thích ứng với các yêu cầu đa dạng, giúp đơn giản hóa việc tích hợp dây chuyền sản xuất và chuyển đổi quy trình.
Nếu bạn đang tìm kiếm thiết bị xử lý ướt 300mm đã được kiểm chứng, đáng tin cậy để mở rộng công suất hoặc nâng cấp quy trình của mình, vui lòng liên hệ với chúng tôi để biết thêm chi tiết và nhận báo giá cạnh tranh.
Thông số kỹ thuật của TEL CELLESTA™-i MD
| Tham số | Sự miêu tả |
|---|---|
| Loại thiết bị | Hệ thống làm sạch wafer đơn |
| Nhà sản xuất | Tokyo Electron (TEL) |
| Người mẫu | CELLESTA™-i MD |
| Kích thước wafer | 300mm |
| Loại quy trình | Làm sạch tấm bán dẫn ướt |
| Chức năng chính | Loại bỏ hạt và làm sạch bề mặt |
| Ứng dụng | Sản xuất chất bán dẫn tiên tiến |
| Thị trường mục tiêu | Các nhà máy sản xuất mạch logic, bộ nhớ và chất bán dẫn tiên tiến. |
