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AG Associates Heatpulse 8108 RTP 시스템

AG Associates Heatpulse 8108은 150~200mm 웨이퍼용 단일 웨이퍼 고속 열처리 장비입니다. 낮은 열 변동, 다중 구역 가열 및 폐쇄 루프 제어를 통해 반복 가능한 어닐링 및 산화 결과를 제공합니다.

AG Associates Heatpulse 8108 RTP System 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

AG Associates Heatpulse 8108은 뛰어난 성능 편차를 자랑하는 다목적 단일 웨이퍼 고속 열처리 장비입니다. 이온 주입 어닐링, 실리사이드 형성 및 박막 산화 등 150mm~200mm 웨이퍼 대량 생산에 필요한 핵심 제조 워크플로우를 처리합니다.

초고속 온도 상승률과 다중 구역 독립 가열 제어를 통해 웨이퍼 전체에 걸쳐 탁월한 열 균일성을 제공합니다. 고정밀 고온계 온도 감지 및 폐루프 피드백 제어를 통해 열 편차를 최소화하여 웨이퍼 간 반복 가능하고 일관된 공정 결과를 보장합니다.

이 열처리 장비는 현장에서 검증된 제품으로, 컴팩트한 크기와 유연한 작동 방식을 자랑합니다. 사용자 정의 레시피 프로그래밍과 고속 카세트 간 이송 기능을 지원하며, 뛰어난 신뢰성과 낮은 고장률로 열처리 공정을 안정화하고 전체 생산 수율을 향상시키는 데 비용 효율적인 솔루션입니다.

AG 히트펄스 8108 주요 사양

제조업체AG 어소시에이츠
제품군히트펄스
모델8108
장비 유형단일 웨이퍼 고속 열처리 시스템
지원되는 웨이퍼 크기최대 200mm; 제공되는 목록에는 150mm 및 200mm 웨이퍼가 명시되어 있습니다.
가열 방식상부 및 하부 텅스텐 램프 어레이
온도 측정설치된 구성에 따라 열전대 또는 고온계가 사용됩니다.
온도 조절폐쇄 루프 공정 온도 제어
냉각 방식공개된 플랫폼에서의 콜드월 열교환기 냉각
공개된 공정 신청서어닐링, 제어 확산, 산화, 활성화 및 실리사이드 형성
공정 분위기설치된 가스 패널, 연소실 및 옵션에 따라 다릅니다.
상태중고 반도체 장비
유효성현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다.

AG Heatpulse 8108 rapid thermal process chamber

AG Heatpulse 8108 controller and equipment nameplate

AG Associates Heatpulse 8108 rapid thermal processor