AG AssociatesのHeatpulse 8108は、低ばらつきの高速熱処理性能で定評のある、汎用性の高いシングルウェーハ高速熱処理装置です。イオン注入アニーリング、シリサイド形成、薄膜酸化など、150mmから200mmウェーハの量産における主要な製造ワークフローに対応します。
超高速の昇温速度とマルチゾーン独立加熱制御により、ウェハー全体にわたって優れた熱均一性を実現します。高精度パイロメータによる温度センシングと閉ループフィードバック制御を組み合わせることで、熱偏差を最小限に抑え、ウェハーごとに再現性と一貫性のあるプロセス結果を保証します。
この実績のある熱処理装置は、コンパクトな設置面積と柔軟な操作性を特長としています。カスタムレシピプログラミングに対応し、カセット間の高速処理が可能です。高い信頼性と低い故障率により、熱処理プロセスの安定化と製造工場全体の歩留まり向上を実現する、費用対効果の高いアップグレードとなります。
AG Heatpulse 8108の主な仕様
| メーカー | AGアソシエイツ |
|---|---|
| 製品ファミリー | ヒートパルス |
| モデル | 8108 |
| 機器の種類 | シングルウェハ高速熱処理システム |
| 対応ウェハサイズ | 最大200mmまで対応。利用可能なリストには150mmと200mmのウェーハが記載されています。 |
| 加熱方法 | 上部および下部のタングステンランプアレイ |
| 温度測定 | 設置構成に応じて、熱電対または高温計が使用されます。 |
| 温度制御 | 閉ループ式プロセス温度制御 |
| 冷却方法 | 公開プラットフォームにおけるコールドウォール熱交換器の冷却 |
| 公開されたプロセスアプリケーション | アニーリング、制御拡散、酸化、活性化、およびケイ化物形成 |
| プロセス雰囲気 | 設置されているガスパネル、チャンバー、およびオプションによって異なります |
| 状態 | 中古半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況、検査および構成確認を条件とします。 |
