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SAMCO AD-230LP 플라즈마 ALD 시스템

반도체 및 MEMS 구조물에 AlN, SiN, AlOx 및 SiO2 박막을 균일하게 증착하기 위해 SAMCO AD-230LP 로드록 플라즈마 ALD 시스템을 사용했습니다.

SAMCO AD-230LP Plasma ALD System 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

초박형 컨포멀 필름 개발을 위해 SAMCO AD-230LP는 다음과 같은 기능을 제공합니다. 플라즈마 ALD생산 및 연구 개발 환경을 시험 운영할 수 있는 기능을 갖추고 있습니다. 이 장비는 MEMS 및 첨단 전력 반도체 구조 제작에 필수적인 산화물 및 질화막 성장을 지원합니다.

이 시스템의 차별점은 정밀하게 조절된 가스 및 플라즈마 펄싱에 있습니다. 이를 통해 원자 규모의 두께 제어와 탁월한 성능을 구현할 수 있습니다. 단계 커버리지복잡하고 높은 종횡비의 형상을 코팅할 때 매우 중요합니다.

대형 생산 클러스터 장비와 달리, 이 소형 반응기는 설치 공간을 최소화하면서도 ALD 공정의 모든 조정 기능을 유지합니다. 빠른 챔버 세척과 간단한 하드웨어 유지 보수로 유휴 시간을 줄여 팀이 새로운 박막 레시피를 안정적으로 시험해 볼 수 있도록 합니다.

SAMCO AD-230LP plasma ALD system

SAMCO AD-230LP 주요 사양

제조업체삼코
모델AD-230LP
장비 유형로드락 플라즈마 강화 원자층 증착 시스템
증착 기술플라즈마 강화 원자층 증착
플라즈마 방법공개된 플랫폼 설계에서 용량 결합 플라즈마
웨이퍼 로딩로드록 챔버
공개된 영화 자료AlN, SiN, AlOx 및 SiO2
필름 컨트롤순차적인 표면 반응을 통한 원자층 수준의 두께 제어
주요 응용 분야3차원 구조물의 절연막, 부동태화막 및 등각 코팅
상태중고 반도체 장비
유효성현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다.