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SAMCO AD-230LP プラズマALDシステム

半導体およびMEMS構造上に、コンフォーマルなAlN、SiN、AlOx、およびSiO2薄膜を成膜するために、SAMCO AD-230LPロードロックプラズマALDシステムを使用しました。

SAMCO AD-230LP Plasma ALD System 機器画像
構成レビュー モデルと搭載オプション
新品/中古品 プロジェクトの利用状況によります
グローバルデリバリー 目的地別評価
技術RFQ パッケージとプロセスのマッチング

超薄型コンフォーマルフィルムの開発において、SAMCO AD-230LPは 血漿ALD生産および研究開発環境におけるパイロット運用能力を備えています。このツールは、MEMSおよび高度なパワー半導体構造の製造に不可欠な、酸化物および窒化物膜の成長をサポートします。

このシステムを際立たせているのは、微調整されたガスとプラズマのパルス制御です。原子スケールの厚さ制御と卓越した性能を実現します。 ステップカバー複雑な高アスペクト比の形状にコーティングを施す際に特に重要となる。

大型生産クラスター装置とは異なり、このコンパクトなリアクターは設置面積を最小限に抑えつつ、ALDプロセスの完全な調整機能を維持します。チャンバーの迅速な洗浄と簡単なハードウェアメンテナンスにより、待機時間を短縮し、チームは新しい薄膜レシピを確実に試すことができます。

SAMCO AD-230LP plasma ALD system

SAMCO AD-230LPの主な仕様

メーカーサムコ
モデルAD-230LP
機器の種類ロードロック式プラズマ強化原子層堆積システム
成膜技術プラズマ強化原子層堆積法
プラズマ法公開されたプラットフォーム設計における容量結合プラズマ
ウェーファーロードロードロックチャンバー
公開された映画資料AlN、SiN、AlOx、SiO2
フィルムコントロール連続的な表面反応による原子層レベルの厚さ制御
主な用途絶縁層、不動態化膜、および三次元構造のコンフォーマルコーティング
状態中古半導体製造装置
可用性現在の在庫状況、検査および構成確認を条件とします。