Để phát triển các màng mỏng siêu mịn, máy SAMCO AD-230LP mang lại những cải tiến đáng kể. ALD huyết tươngCông cụ này có khả năng thử nghiệm sản xuất và thiết lập nghiên cứu & phát triển. Nó hỗ trợ sự phát triển màng oxit và nitrua, một yếu tố then chốt để chế tạo các cấu trúc MEMS và bán dẫn công suất tiên tiến.
Điều làm nên sự khác biệt của hệ thống này là khả năng điều chỉnh chính xác xung khí và plasma. Nó đạt được khả năng kiểm soát độ dày ở cấp độ nguyên tử và hiệu suất vượt trội. phạm vi bướcĐiều này rất quan trọng khi phủ lớp bảo vệ lên các bề mặt phức tạp có tỷ lệ chiều cao trên chiều rộng lớn.
Không giống như các thiết bị cụm sản xuất lớn, lò phản ứng nhỏ gọn này giảm thiểu diện tích chiếm dụng trong khi vẫn duy trì khả năng điều chỉnh quy trình ALD đầy đủ. Việc làm sạch buồng nhanh chóng và bảo trì phần cứng đơn giản giúp giảm thời gian chết, cho phép các nhóm thử nghiệm các công thức màng mỏng mới một cách đáng tin cậy.
Thông số kỹ thuật chính của SAMCO AD-230LP
| Nhà sản xuất | SAMCO |
|---|---|
| Người mẫu | AD-230LP |
| Loại thiết bị | Hệ thống lắng đọng lớp nguyên tử tăng cường plasma buồng nạp |
| Công nghệ lắng đọng | lắng đọng lớp nguyên tử tăng cường plasma |
| Phương pháp huyết tương | Plasma ghép nối điện dung trong thiết kế nền tảng đã công bố |
| Nạp wafer | Buồng khóa tải |
| Tài liệu phim đã xuất bản | AlN, SiN, AlOx và SiO2 |
| Kiểm soát phim | Kiểm soát độ dày ở cấp độ lớp nguyên tử thông qua các phản ứng bề mặt tuần tự. |
| Ứng dụng chính | Màng cách điện, màng thụ động hóa và lớp phủ bảo vệ cấu trúc ba chiều. |
| Tình trạng | Thiết bị bán dẫn đã qua sử dụng |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào tình trạng hàng tồn kho hiện tại, việc kiểm tra và xác nhận cấu hình. |
