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SEN 10GSD-A-160 고전류 이온 주입기

150mm 및 200mm 웨이퍼용 SEN 10GSD-A-160 고전류 이온 주입기를 사용했습니다. 이온 소스, 빔 에너지, 가스 시스템 및 웨이퍼 디스크는 확인이 필요합니다.

SEN 10GSD-A-160 High-Current Ion Implanter 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

고용량 이온 주입은 반도체 제조에서 소스/드레인 영역 형성 및 폴리실리콘 도핑에 핵심적인 역할을 합니다. SEN 10GSD-A-160은 고전류 이온 주입기 범주에 속하며, 붕소, 인, 비소와 같은 도펀트를 사용하는 기존 웨이퍼 제조 공정에 적용됩니다.

이러한 종류의 장비에서는 빔 안정성과 주입 각도가 도핑 물질 배치 및 프로파일 일관성에 직접적인 영향을 미칩니다. 배치 회전식 엔드 스테이션을 사용하면 주입 과정 중 웨이퍼 방향을 제어할 수 있어 채널링 현상을 효과적으로 관리할 수 있습니다. 웨이퍼 크기, 사용 가능한 빔 조건 및 엔드 스테이션 구성에 따라 해당 장비가 특정 생산 흐름에 얼마나 적합한지가 결정됩니다.

전력 반도체 소자, 개별 부품 및 센서는 필요한 임플란트 조건이 장비 구성과 일치하는 잠재적 응용 분야입니다. 중고 SEN 10GSD-A-160을 생산에 통합하기 전에 설치된 옵션과 작동 상태를 목표 공정과 비교하여 확인해야 합니다.

SEN 10GSD-A-160 주요 사양

제조업체SEN / 스미토모 이튼 노바
모델10GSD-A-160
장비 유형고전류 이온 주입기
지원되는 웨이퍼 크기제공된 장비 목록에 따르면 150mm와 200mm입니다.
임플란트 전류 등급고전류
임플란트 에너지 범위설치된 고전압 및 빔라인 구성을 통해 확인해야 합니다.
이온 소스음원 유형, 음원 헤드 구성 요소 및 승인된 종을 확인해야 합니다.
웨이퍼 엔드 스테이션설치된 디스크, 냉각 및 임플란트 각도 구성을 확인해야 합니다.
용량 조절설치된 패러데이 장치, 선량 조절기 및 교정 상태를 점검해야 합니다.
공정 가스가스 박스, MFC, 안전 장비 및 도핑 라인은 기계마다 다릅니다.
제어 시스템컨트롤러 하드웨어, 운영 소프트웨어 및 레시피 데이터베이스를 확인해야 합니다.
상태중고 반도체 장비
유효성현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다.


SEN 10GSD-A-160 ion implantation beamline

SEN 10GSD-A-160 high-current ion implanter

SEN 10GSD-A-160 equipment nameplate