그만큼 스크린 SU-3200 단일 웨이퍼 세척 시스템은 뛰어난 처리량과 견고한 공정 성능으로 300mm 웨이퍼 습식 공정을 처리합니다. 단일 웨이퍼 처리는 각 기판을 분리하여 배치 세척 워크플로우에서 흔히 발생하는 교차 오염을 방지합니다.
이 시스템은 미세 입자, 유기물 및 금속 잔류물을 제거하는 동시에 민감한 패턴과 박막을 보호합니다. 유연한 레시피 호환성을 통해 FEOL, BEOL 및 고급 패키징 단계까지 적용 가능합니다. 연속 작동 시 안정적인 가동 시간을 유지하여 불량률을 줄이고 웨이퍼 제조 라인의 일관된 생산량을 지원합니다.
SCREEN SU-3200 기술 정보
| 매개변수 | 설명 |
|---|---|
| 제조업체 | 스크린 반도체 솔루션 |
| 모델 | SU-3200 |
| 장비 유형 | 단일 웨이퍼 습식 세척 시스템 |
| 웨이퍼 크기 | 300mm |
| 처리 방법 | 웨이퍼 단일 세척, 헹굼 및 건조 |
| 최대 챔버 구성 | 구성에 따라 최대 12개의 공정 챔버 |
| 최대 처리량 | 공정 조건에 따라 시간당 최대 800개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. |
| 웨이퍼 핸들링 | 자동 웨이퍼 로딩, 이송, 처리 및 언로딩 |
| 화학 물질 공급 | 구성 의존형 화학물질 전달 시스템 |
| 공정 제어 | 프로그래밍 가능한 세척, 헹굼, 화학 약품 공급 및 건조 레시피 |
| 주요 응용 분야 | 고급 로직, 메모리, 에칭 후처리, 스트립 후처리 및 관련 웨이퍼 세척 공정 |
정확한 사양은 기계 생산 연도, 하드웨어 구성, 챔버 수량, 화학 모듈, 소프트웨어 버전, 공장 옵션 및 이전 적용 사례에 따라 다를 수 있습니다.
구매 전에 장비 명판, 구성 목록, 시설 요구 사항 및 현재 작동 상태를 확인해야 합니다.
