Cái MÀN HÌNH SU-3200 Hệ thống làm sạch từng tấm wafer riêng lẻ xử lý ướt wafer 300mm với năng suất ấn tượng và hiệu năng mạnh mẽ. Quá trình xử lý từng wafer riêng biệt giúp cách ly từng chất nền, tránh lây nhiễm chéo thường xảy ra trong các quy trình làm sạch theo lô.
Hệ thống loại bỏ các hạt siêu nhỏ, chất hữu cơ và cặn kim loại trong khi vẫn bảo toàn các mẫu nhạy cảm và màng mỏng. Khả năng tương thích công thức linh hoạt bao gồm các bước FEOL, BEOL và đóng gói tiên tiến. Hệ thống duy trì thời gian hoạt động ổn định trong vận hành liên tục, giảm thiểu lỗi và hỗ trợ sản lượng ổn định cho dây chuyền sản xuất wafer của bạn.
Thông tin kỹ thuật màn hình SU-3200
| Tham số | Sự miêu tả |
|---|---|
| Nhà sản xuất | Giải pháp bán dẫn SCREEN |
| Người mẫu | SU-3200 |
| Loại thiết bị | Hệ thống làm sạch ướt một tấm wafer |
| Kích thước wafer | 300mm |
| Phương pháp xử lý | Làm sạch, tráng rửa và sấy khô từng tấm wafer riêng lẻ. |
| Cấu hình buồng tối đa | Tối đa 12 buồng xử lý, tùy thuộc vào cấu hình. |
| Thông lượng tối đa | Năng suất lên đến 800 tấm wafer mỗi giờ, tùy thuộc vào điều kiện quy trình. |
| Xử lý wafer | Tự động nạp, vận chuyển, xử lý và dỡ wafer. |
| Cung cấp hóa chất | Hệ thống phân phối hóa chất phụ thuộc vào cấu hình |
| Kiểm soát quy trình | Công thức làm sạch, xả, cung cấp hóa chất và sấy khô có thể lập trình. |
| Ứng dụng chính | Các quy trình làm sạch wafer tiên tiến về logic, bộ nhớ, sau khắc, sau bóc tách và các quy trình liên quan. |
Thông số kỹ thuật chính xác có thể thay đổi tùy thuộc vào năm sản xuất máy, cấu hình phần cứng, số lượng buồng, mô-đun hóa chất, phiên bản phần mềm, tùy chọn nhà máy và ứng dụng trước đó.
Trước khi mua, cần kiểm tra nhãn thiết bị, danh sách cấu hình, yêu cầu của cơ sở và tình trạng hoạt động hiện tại.
