ระบบ Canon Anelva FC7100 PVD สามารถประมวลผลไทเทเนียม ไทเทเนียมไนไตรด์ อะลูมิเนียม และชั้นตัวนำอื่นๆ ซึ่งตรงตามข้อกำหนดด้านโลหะวิทยาสำหรับการผลิตอุปกรณ์แบบแยกชิ้นและอุปกรณ์กำลังไฟฟ้า
ระบบนี้มาพร้อมกับเป้าหมายการสปัตเตอร์หลายจุดและแท่นวางเวเฟอร์ที่มีความแม่นยำสูง ทำให้ได้ฟิล์มบางที่มีความสม่ำเสมอและการครอบคลุมที่ดีเยี่ยม ห้องล็อคโหลดแบบรวมช่วยรักษาความสมบูรณ์ของสุญญากาศ ลดการปนเปื้อนของอนุภาคในระหว่างการเคลื่อนย้ายเวเฟอร์ และเพิ่มความสามารถในการทำซ้ำของกระบวนการ
การบำรุงรักษาห้องอบที่ง่ายขึ้นและการเข้าถึงวัสดุสิ้นเปลืองได้สะดวก ช่วยควบคุมต้นทุนการดำเนินงาน ระบบนี้ผสานรวมเข้ากับขั้นตอนการทำงานของโรงงานผลิตเวเฟอร์ขนาด 150 มม./200 มม. ได้อย่างราบรื่น ให้การตกตะกอนโลหะที่เสถียรซึ่งรับประกันผลผลิตอุปกรณ์ที่สม่ำเสมอ
ข้อมูลจำเพาะหลักของ Canon Anelva FC7100
| ผู้ผลิต | แคนนอน อเนลวา |
|---|---|
| แบบอย่าง | เอฟซี7100 |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบสปัตเตอร์ PVD แบบคลัสเตอร์ |
| ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับ | เวเฟอร์ขนาด 300 มม. / 12 นิ้ว |
| กระบวนการหลัก | การตกตะกอนไอทางกายภาพและการสปัตเตอร์แบบปฏิกิริยา |
| แอปพลิเคชันหลักที่เผยแพร่แล้ว | การขึ้นรูปฟิล์มโลหะเกตที่มีค่า k สูง |
| จำนวนโมดูลที่ติดตั้งสูงสุด | โมดูลสูงสุดห้าโมดูลในแพลตฟอร์มที่เผยแพร่แล้ว |
| ประเภทโมดูลที่กำหนดค่าได้ | กระบวนการสปัตเตอร์ริ่ง การกัด การออกซิเดชัน และการให้ความร้อน ขึ้นอยู่กับการกำหนดค่า |
| สถาปัตยกรรมระบบ | แพลตฟอร์มคลัสเตอร์ |
| ปีที่ระบุในเอกสารแสดงการรับราชการ | ปี 2011 ตามข้อมูลในหน้าอุปกรณ์ที่มีอยู่ |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบัน การกำหนดค่าโมดูล และการยืนยันการตรวจสอบ |
