เครื่องเคลือบและล้างฟิล์ม DNS SCW60A ทำหน้าที่เคลือบฟิล์มโฟโตเรซิสต์และล้างฟิล์มหลังการฉายแสงในกระบวนการพิมพ์หินสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ ความสม่ำเสมอของการเคลือบ ความหนาของฟิล์มเรซิสต์ และการควบคุมกระบวนการล้างฟิล์มส่งผลโดยตรงต่อการสร้างลวดลายและความสม่ำเสมอทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ ขั้นตอนการเคลือบจะสร้างชั้นเรซิสต์ก่อนการฉายแสง ในขณะที่การล้างฟิล์มจะกำจัดส่วนที่เลือกของเรซิสต์ออกเพื่อเผยให้เห็นลวดลายที่ต้องการ การจัดการเวเฟอร์ที่เสถียรและสภาวะกระบวนการที่ทำซ้ำได้มีความสำคัญต่อการรักษาผลลัพธ์ที่สม่ำเสมอในการผลิตแต่ละครั้ง
สำหรับเครื่อง DNS SCW60A มือสอง การตรวจสอบทางเทคนิคที่สำคัญ ได้แก่ การกำหนดค่าโมดูลการเคลือบและการพัฒนา ระบบการส่งสารต้านทานและสารพัฒนา ความแม่นยำในการจัดการเวเฟอร์ ความสามารถในการทำซ้ำของกระบวนการ และความเข้ากันได้กับระบบการพิมพ์หินที่มีอยู่เดิม
ข้อมูลจำเพาะหลักของ DNS SCW60A
| ผู้ผลิต | เอ็นเอสดี |
|---|---|
| แบบอย่าง | SCW60A |
| ชื่อรายการทางเลือก | ดีเอ็นเอ เอสซีดับบลิว60 |
| ประเภทอุปกรณ์ | เครื่องเคลือบเวเฟอร์และเครื่องพัฒนาภาพ |
| ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับ | เวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว ตามข้อมูลที่มีอยู่ |
| การกำหนดค่ากระบวนการที่ระบุไว้ | 2C และ 2D; ต้องยืนยันการจัดวางติดตั้งจริงอีกครั้ง |
| กระบวนการหลัก | การเคลือบและการพัฒนาสารต้านทานแสง |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบันและการยืนยันการกำหนดค่า |
