TRANG CHỦ > Các sản phẩm > Thiết bị sản xuất wafer đầu cuối > Thiết bị cấy ion >

Máy cấy ion dòng điện cao SEN 10GSD-A-160

Đã qua sử dụng máy cấy ion dòng điện cao SEN 10GSD-A-160 cho tấm wafer 150 mm và 200 mm. Cần xác nhận lại nguồn ion, năng lượng chùm tia, hệ thống khí và đĩa wafer.

SEN 10GSD-A-160 High-Current Ion Implanter HÌNH ẢNH THIẾT BỊ
Đánh giá cấu hình Mẫu mã và các tùy chọn đã cài đặt
Nguồn cung mới/đã qua sử dụng Tùy thuộc vào tình trạng sẵn có của dự án
Giao hàng toàn cầu Đánh giá dựa trên điểm đến
Yêu cầu báo giá kỹ thuật (Technical RFQ) Phù hợp gói hàng và quy trình

Cấy ion liều cao đóng vai trò trung tâm trong việc hình thành các vùng nguồn/thoát và pha tạp polysilicon trong sản xuất chất bán dẫn. Máy SEN 10GSD-A-160 thuộc loại máy cấy ion dòng điện cao, được ứng dụng trong các quy trình chế tạo wafer hiện có liên quan đến các chất pha tạp như boron, phốt pho và asen.

Đối với loại thiết bị này, độ ổn định của chùm tia và góc cấy ghép ảnh hưởng trực tiếp đến vị trí đặt chất pha tạp và tính nhất quán của cấu hình. Trạm cuối quay theo lô cho phép kiểm soát hướng của tấm wafer trong quá trình cấy ghép, giúp quản lý các hiệu ứng tạo kênh. Kích thước wafer, điều kiện chùm tia hiện có và cấu hình trạm cuối quyết định cách thiết bị phù hợp với quy trình sản xuất cụ thể.

Các thiết bị bán dẫn công suất, linh kiện rời rạc và cảm biến là những lĩnh vực ứng dụng tiềm năng, nơi các điều kiện cấy ghép cần thiết phù hợp với cấu hình của máy. Trước khi tích hợp máy SEN 10GSD-A-160 đã qua sử dụng vào sản xuất, cần kiểm tra các tùy chọn đã cài đặt và điều kiện hoạt động của máy so với quy trình mục tiêu.

Thông số kỹ thuật chính của SEN 10GSD-A-160

Nhà sản xuấtSEN / Sumitomo Eaton Nova
Người mẫu10GSD-A-160
Loại thiết bịMáy cấy ion dòng điện cao
Kích thước wafer được hỗ trợ150 mm và 200 mm, theo danh sách thiết bị hiện có.
Cấy ghép dòng điệnDòng điện cao
Phạm vi năng lượng cấy ghépCần phải xác nhận từ cấu hình điện áp cao và đường truyền chùm tia đã lắp đặt.
Nguồn ionLoại nguồn, các thành phần đầu nguồn và các loài được chấp thuận phải được xác minh.
Trạm cuối waferCần xác nhận cấu hình ổ đĩa đã lắp đặt, hệ thống làm mát và góc cấy ghép.
Kiểm soát liều lượngCần kiểm tra tình trạng lắp đặt Faraday, bộ điều khiển liều lượng và trạng thái hiệu chuẩn.
Khí công nghiệpHộp khí, MFC, thiết bị an toàn và đường dẫn chất pha tạp khác nhau tùy thuộc vào từng loại máy.
Hệ thống điều khiểnCần phải xác nhận phần cứng bộ điều khiển, phần mềm vận hành và cơ sở dữ liệu công thức.
Tình trạngThiết bị bán dẫn đã qua sử dụng
Tính khả dụngTùy thuộc vào tình trạng hàng tồn kho hiện tại, việc kiểm tra và xác nhận cấu hình.


SEN 10GSD-A-160 ion implantation beamline

SEN 10GSD-A-160 high-current ion implanter

SEN 10GSD-A-160 equipment nameplate