RUMAH > Produk > Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan > Peralatan Implantasi Ion >

Implan Ion Arus Tinggi SEN 10GSD-A-160

Implanter ion arus tinggi SEN 10GSD-A-160 terpakai untuk wafer 150 mm dan 200 mm. Sumber ion, tenaga pancaran, sistem gas dan cakera wafer memerlukan pengesahan.

SEN 10GSD-A-160 High-Current Ion Implanter IMEJ PERALATAN
Semakan Konfigurasi Model dan pilihan yang dipasang
Bekalan Baru / Terpakai Tertakluk kepada ketersediaan projek
Penghantaran Global Penilaian berasaskan destinasi
RFQ Teknikal Pemadanan pakej dan proses

Implantasi dos tinggi memainkan peranan penting dalam membentuk kawasan sumber/saliran dan pendopan polisilikon dalam pembuatan semikonduktor. SEN 10GSD-A-160 tergolong dalam kategori implanter ion arus tinggi, dengan aplikasi dalam proses fabrikasi wafer yang mantap yang melibatkan dopan seperti boron, fosforus dan arsenik.

Bagi kelas peralatan ini, kestabilan rasuk dan sudut implan secara langsung mempengaruhi penempatan dopan dan konsistensi profil. Stesen hujung putar kelompok membolehkan orientasi wafer dikawal semasa implantasi, membantu mengurus kesan penyaluran. Saiz wafer, keadaan rasuk yang tersedia dan konfigurasi stesen hujung menentukan bagaimana alat tersebut sesuai dengan aliran pengeluaran tertentu.

Peranti semikonduktor kuasa, komponen diskret dan sensor merupakan bidang aplikasi yang berpotensi di mana keadaan implan yang diperlukan sepadan dengan konfigurasi mesin. Sebelum mengintegrasikan SEN 10GSD-A-160 terpakai ke dalam pengeluaran, pilihan yang dipasang dan keadaan operasinya hendaklah disemak terhadap proses sasaran.

Spesifikasi Utama SEN 10GSD-A-160

PengilangSEN / Sumitomo Eaton Nova
Model10GSD-A-160
Jenis PeralatanImplan Ion Arus Tinggi
Saiz Wafer yang Disokong150 mm dan 200 mm, mengikut senarai peralatan yang tersedia
Kelas Arus ImplanArus tinggi
Julat Tenaga ImplanMesti disahkan daripada konfigurasi voltan tinggi dan beamline yang dipasang
Sumber IonJenis sumber, komponen kepala sumber dan spesies yang diluluskan mesti disahkan
Stesen Wafer EndCakera yang dipasang, konfigurasi penyejukan dan sudut implan mesti disahkan
Kawalan DosFaraday yang dipasang, pengawal dos dan status penentukuran mesti diperiksa
Gas ProsesKotak gas, MFC, peralatan keselamatan dan talian dopan berbeza mengikut mesin
Sistem KawalanPerkakasan pengawal, perisian pengendalian dan pangkalan data resipi mesti disahkan
KeadaanPeralatan semikonduktor terpakai
KetersediaanTertakluk kepada stok semasa, pemeriksaan dan pengesahan konfigurasi


SEN 10GSD-A-160 ion implantation beamline

SEN 10GSD-A-160 high-current ion implanter

SEN 10GSD-A-160 equipment nameplate