Là một hệ thống in thạch bản hiệu năng cao, TEL MARK Vz tích hợp chất phủ & chất phát triển Thiết bị này xử lý lớp phủ quang trở trên tấm wafer 200mm cho các dây chuyền sản xuất hàng loạt. Nó liên kết liền mạch quá trình phủ lớp lót HMDS, phủ lớp quang trở bằng phương pháp quay ly tâm, nung và phát triển mẫu trong một nền tảng tự động duy nhất.
Việc tối ưu hóa hệ thống cung cấp chất lỏng và quản lý nhiệt độ giúp kiểm soát chặt chẽ mọi thứ. độ đồng nhất của chất cản quang Trên toàn bộ bề mặt tấm wafer. Công nghệ loại bỏ hạt ở mép tiên tiến và cách ly môi trường hoạt động cùng nhau để ngăn chặn sự phát sinh hạt và giảm thiểu các khuyết tật trong quá trình tạo hình.
Được thiết kế để hoạt động liên tục trong thời gian dài, đường ray này cân bằng giữa năng suất cao và bảo trì phòng ngừa dễ dàng. Nó được sử dụng rộng rãi trong các nhà máy sản xuất linh kiện điện tử và bán dẫn rời rạc để duy trì sản lượng quang khắc ổn định.
Thông số kỹ thuật chính của TEL MARK Vz
| Nhà sản xuất | Công ty TNHH Điện tử Tokyo |
|---|---|
| Thương hiệu | ĐIỆN THOẠI |
| Người mẫu | MARK Vz |
| Loại thiết bị | Hệ thống theo dõi máy phủ và phát triển wafer |
| Kích thước wafer được hỗ trợ | Theo danh sách hiện có, đó là các tấm wafer 6 inch. |
| Cấu hình quy trình được liệt kê | 2C và 2D; cần xác nhận các mô-đun đã lắp đặt thực tế. |
| Quá trình chính | Phủ lớp cản quang và quá trình phát triển |
| Tình trạng | Thiết bị bán dẫn đã qua sử dụng |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào tình trạng hàng tồn kho hiện tại và xác nhận cấu hình. |
