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바리안 E500 중전류 이온 주입기

150mm 및 200mm 웨이퍼용 중고 Varian E500 중전류 이온 주입기입니다. 정확한 E500 모델, 에너지 범위, 소스 및 엔드 스테이션 구성은 확인이 필요합니다.

Varian E500 Medium-Current Ion Implanter 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

Varian E500은 신뢰할 수 있는 제품입니다. 중전류 이온 주입기이 장비는 정밀한 반도체 도핑을 위한 핵심 장비로, 성숙 노드 팹에 탁월한 가치를 제공합니다. Bernas 이온 소스와 고해상도 질량 분석기를 탑재하여 붕소, 인, 비소 등 다양한 도펀트를 지원하며, 웰 형성, 문턱값 조정, 폴리 게이트 도핑 요구 사항을 충족하기 위한 유연한 에너지 튜닝 기능을 제공합니다.

정밀한 도즈 제어와 탁월한 빔 균일성을 자랑하는 이 임플란터는 임플란테이션 과정에서 웨이퍼 간 편차와 입자 오염을 최소화합니다. 신뢰할 수 있는 빔 모니터링 시스템은 실시간 피드백 보정을 통해 웨이퍼 전체에 걸쳐 일관된 도핑 프로파일을 보장합니다. 검증된 정전기 척과 냉각 플레이트를 장착하여 웨이퍼 가열을 효과적으로 제어하고 연속적인 고처리량 생산 환경에서도 열 손상을 방지합니다.

전력 반도체, 개별 소자 및 MEMS 제조에 강력히 추천하는 이 검증된 플랫폼은 풍부한 예비 부품과 낮은 운영 비용을 자랑합니다. 도핑 용량을 확장하거나 기존 임플란테이션 장비를 교체할 계획이라면, Varian E500은 안정적인 가동 시간과 손쉬운 공장 통합을 통해 비용 효율적이고 생산 준비가 완료된 솔루션입니다.

Varian E500 medium-current ion implanter

바리안 E500 주요 사양

제조업체바리안 반도체 장비 협회
모델500유로
장비 유형중전류 이온 주입기
지원되는 웨이퍼 크기제공된 장비 목록에 따르면 150mm와 200mm입니다.
임플란트 전류 등급중간 전류
기계 변형E500 변형 모델 및 설치된 업그레이드 레벨은 명판을 통해 확인해야 합니다.
에너지 범위해당 기기가 표준형, HP, EHP, EHPi 또는 기타 구성 버전인지에 따라 다릅니다.
이온 소스설치된 소스 설계 및 지원되는 도핑 물질 종류를 검증해야 합니다.
웨이퍼 엔드 스테이션웨이퍼 크기, 스캐닝, 기울기 및 회전 구성이 확인되어야 합니다.
용량 조절빔 모니터링, 패러데이 시스템 및 교정 상태에 대한 점검이 필요합니다.
제어 플랫폼컨트롤러, 워크스테이션, 소프트웨어 버전 및 통신 인터페이스는 시스템에 따라 다릅니다.
상태중고 반도체 장비
유효성현재 재고, 검사 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다.

Varian E500 ion source and beamline

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