RUMAH > Produk > Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan > Peralatan Implantasi Ion >

Implan Ion Arus Sederhana Varian E500

Implanter ion arus sederhana Varian E500 terpakai untuk wafer 150 mm dan 200 mm. Konfigurasi varian, julat tenaga, sumber dan stesen akhir E500 yang tepat memerlukan pengesahan.

Varian E500 Medium-Current Ion Implanter IMEJ PERALATAN
Semakan Konfigurasi Model dan pilihan yang dipasang
Bekalan Baru / Terpakai Tertakluk kepada ketersediaan projek
Penghantaran Global Penilaian berasaskan destinasi
RFQ Teknikal Pemadanan pakej dan proses

Varian E500 ialah jenama yang dipercayai implanter ion arus sederhana, satu kuasa besar untuk doping semikonduktor yang tepat yang memberikan nilai cemerlang untuk fabrik nod matang. Dibina dengan sumber ion Bernas dan penganalisis jisim resolusi tinggi, ia menyokong pelbagai dopan termasuk boron, fosforus dan arsenik, menawarkan penalaan tenaga fleksibel untuk memenuhi pembentukan telaga, pelarasan ambang dan keperluan doping pintu poli.

Dengan kawalan dos yang tepat dan keseragaman pancaran yang unggul, implan ini meminimumkan variasi wafer-ke-wafer dan pencemaran zarah semasa implantasi. Sistem pemantauan pancarannya yang andal melakukan pembetulan maklum balas masa nyata, menjamin profil doping yang konsisten merentasi wafer. Dilengkapi dengan chuck elektrostatik dan platen penyejuk yang terbukti, ia berkesan mengawal pemanasan wafer dan mencegah kerosakan haba walaupun di bawah pengeluaran daya pemprosesan tinggi yang berterusan.

Amat disyorkan untuk semikonduktor kuasa, peranti diskret dan pembuatan MEMS, platform yang terbukti di lapangan ini mempunyai banyak alat ganti dan kos operasi yang rendah. Jika anda merancang untuk mengembangkan kapasiti doping atau menggantikan alat implantasi legasi, Varian E500 berfungsi sebagai penyelesaian yang kos efektif dan sedia untuk pengeluaran dengan masa operasi yang stabil dan integrasi fabrikasi yang mudah.

Varian E500 medium-current ion implanter

Spesifikasi Utama Varian E500

PengilangRakan Sekutu Peralatan Semikonduktor Varian
ModelE500
Jenis PeralatanImplan Ion Arus Sederhana
Saiz Wafer yang Disokong150 mm dan 200 mm, mengikut senarai peralatan yang tersedia
Kelas Arus ImplanArus sederhana
Varian MesinVarian E500 dan tahap naik taraf yang dipasang mesti disahkan daripada papan nama
Julat TenagaBergantung pada sama ada mesin itu standard, HP, EHP, EHPi atau versi lain yang dikonfigurasikan
Sumber IonReka bentuk sumber yang dipasang dan spesies dopan yang disokong mesti disahkan
Stesen Wafer EndSaiz wafer, pengimbasan, kecondongan dan konfigurasi putaran mesti disahkan
Kawalan DosPemantauan pancaran, sistem Faraday dan status penentukuran memerlukan pemeriksaan
Platform KawalanPengawal, stesen kerja, semakan perisian dan antara muka komunikasi berbeza mengikut sistem
KeadaanPeralatan semikonduktor terpakai
KetersediaanTertakluk kepada stok semasa, pemeriksaan dan pengesahan konfigurasi

Varian E500 ion source and beamline

78795246-af11-4425-9668-b0f4af6d07ef