Varian E500は信頼できる 中電流イオン注入装置は、高精度な半導体ドーピングを実現する主力装置であり、成熟したノードのファブに優れた価値を提供します。ベルナス社製イオン源と高分解能質量分析計を搭載し、ホウ素、リン、ヒ素などの複数のドーパントに対応。ウェル形成、閾値調整、ポリゲートドーピングの要件を満たす柔軟なエネルギー調整機能を提供します。
精密な線量制御と優れたビーム均一性を誇るこのイオン注入装置は、注入中のウェハ間のばらつきと粒子汚染を最小限に抑えます。信頼性の高いビームモニタリングシステムはリアルタイムのフィードバック補正を行い、ウェハ全体で一貫したドーピングプロファイルを実現します。実績のある静電チャックと冷却プラテンを装備し、連続的な高スループット生産時でもウェハの加熱を効果的に制御し、熱による損傷を防ぎます。
パワー半導体、ディスクリートデバイス、MEMS製造に最適なこの実績のあるプラットフォームは、豊富なスペアパーツと低い運用コストを誇ります。ドーピング能力の拡張や従来のイオン注入装置の置き換えを検討している場合、Varian E500は安定した稼働時間と容易な製造統合を実現する、コスト効率に優れた生産対応ソリューションとなります。
Varian E500の主な仕様
| メーカー | バリアン・セミコンダクター・イクイップメント・アソシエイツ |
|---|---|
| モデル | E500 |
| 機器の種類 | 中電流イオン注入装置 |
| 対応ウェハサイズ | 利用可能な機器リストによると、150 mmと200 mm |
| インプラント現在のクラス | 中電流 |
| マシンバリアント | E500のバリアントとインストールされているアップグレードレベルは、銘板で確認する必要があります。 |
| エネルギー範囲 | マシンが標準、HP、EHP、EHPi、またはその他の構成バージョンであるかによって異なります。 |
| イオン源 | インストールされたソース設計とサポートされているドーパント種を検証する必要があります |
| ウェハーエンドステーション | ウェハーサイズ、スキャン、傾斜、回転構成を確認する必要があります。 |
| 線量制御 | ビームモニタリング、ファラデーシステム、および校正状態の検査が必要です。 |
| コントロールプラットフォーム | コントローラ、ワークステーション、ソフトウェアのリビジョン、通信インターフェースはシステムによって異なります。 |
| 状態 | 中古半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況、検査および構成確認を条件とします。 |
