บ้าน > สินค้า > อุปกรณ์การผลิตเวเฟอร์ขั้นต้น > อุปกรณ์ฝังไอออน >

เครื่องฝังไอออนกระแสปานกลาง Varian E500

เครื่องฝังไอออนกระแสปานกลาง Varian E500 สำหรับเวเฟอร์ขนาด 150 มม. และ 200 มม. ต้องยืนยันรุ่น E500 ที่แน่นอน ช่วงพลังงาน แหล่งกำเนิด และการกำหนดค่าสถานีปลายทางอีกครั้ง

Varian E500 Medium-Current Ion Implanter ภาพอุปกรณ์
การตรวจสอบการกำหนดค่า รุ่นและตัวเลือกที่ติดตั้ง
อุปกรณ์ใหม่/มือสอง ขึ้นอยู่กับความพร้อมของโครงการ
การจัดส่งทั่วโลก การประเมินตามจุดหมายปลายทาง
เอกสารขอเสนอราคาทางเทคนิค (Technical RFQ) การจับคู่บรรจุภัณฑ์และกระบวนการ

Varian E500 เป็นอุปกรณ์ที่น่าเชื่อถือ เครื่องฝังไอออนกระแสปานกลางเครื่องมือสำคัญสำหรับการโดปสารกึ่งตัวนำอย่างแม่นยำ ซึ่งให้คุณค่าที่ยอดเยี่ยมสำหรับโรงงานผลิตชิปที่มีเทคโนโลยีขั้นสูง สร้างขึ้นด้วยแหล่งกำเนิดไอออน Bernas และเครื่องวิเคราะห์มวลความละเอียดสูง รองรับสารโดปหลายชนิด รวมถึงโบรอน ฟอสฟอรัส และสารหนู ให้การปรับแต่งพลังงานที่ยืดหยุ่นเพื่อตอบสนองความต้องการในการสร้างบ่อ การปรับค่าเกณฑ์ และการโดปโพลีเกต

ด้วยระบบควบคุมปริมาณรังสีที่แม่นยำและความสม่ำเสมอของลำแสงที่เหนือกว่า เครื่องฝังไอออนนี้ช่วยลดความแปรปรวนระหว่างแผ่นเวเฟอร์และการปนเปื้อนของอนุภาคในระหว่างการฝังไอออน ระบบตรวจสอบลำแสงที่เชื่อถือได้จะทำการแก้ไขแบบเรียลไทม์ ทำให้มั่นใจได้ว่าโปรไฟล์การเจือสารมีความสม่ำเสมอทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ นอกจากนี้ยังมาพร้อมกับหัวจับไฟฟ้าสถิตและแผ่นระบายความร้อนที่ได้รับการพิสูจน์แล้ว ช่วยควบคุมความร้อนของแผ่นเวเฟอร์ได้อย่างมีประสิทธิภาพและป้องกันความเสียหายจากความร้อนแม้ในระหว่างการผลิตที่มีปริมาณมากอย่างต่อเนื่อง

ขอแนะนำอย่างยิ่งสำหรับอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์กำลังสูง อุปกรณ์แบบแยกชิ้น และ MEMS แพลตฟอร์มที่ได้รับการพิสูจน์แล้วในภาคสนามนี้มีอะไหล่มากมายและต้นทุนการดำเนินงานต่ำ หากคุณวางแผนที่จะขยายกำลังการผลิตสารเจือปนหรือเปลี่ยนเครื่องมือฝังสารแบบเดิม Varian E500 จะเป็นโซลูชันที่คุ้มค่า พร้อมใช้งานสำหรับการผลิต มีเวลาทำงานที่เสถียร และผสานรวมเข้ากับโรงงานผลิตได้ง่าย

Varian E500 medium-current ion implanter

ข้อมูลจำเพาะหลักของ Varian E500

ผู้ผลิตบริษัท วาเรียน เซมิคอนดักเตอร์ อีควิปเมนท์ แอสโซซิเอทส์
แบบอย่างอี500
ประเภทอุปกรณ์เครื่องฝังไอออนกระแสปานกลาง
ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับขนาด 150 มม. และ 200 มม. ตามรายการอุปกรณ์ที่มีอยู่
การปลูกถ่ายคลาสปัจจุบันกระแสไฟฟ้าปานกลาง
รุ่นเครื่องจักรต้องตรวจสอบรุ่น E500 และระดับการอัปเกรดที่ติดตั้งจากป้ายชื่อรุ่น
ช่วงพลังงานขึ้นอยู่กับว่าเครื่องนั้นเป็นรุ่นมาตรฐาน, HP, EHP, EHPi หรือรุ่นอื่นๆ ที่มีการกำหนดค่าเพิ่มเติม
แหล่งกำเนิดไอออนต้องตรวจสอบการออกแบบแหล่งกำเนิดที่ติดตั้งและชนิดของสารเจือปนที่รองรับ
สถานีเวเฟอร์ปลายต้องยืนยันขนาดเวเฟอร์ การสแกน การเอียง และการตั้งค่าการหมุน
การควบคุมขนาดยาจำเป็นต้องตรวจสอบระบบติดตามลำแสง ระบบฟาราเดย์ และสถานะการสอบเทียบ
แพลตฟอร์มควบคุมตัวควบคุม เวิร์กสเตชัน เวอร์ชันซอฟต์แวร์ และอินเทอร์เฟซการสื่อสารจะแตกต่างกันไปตามแต่ละระบบ
เงื่อนไขอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง
ความพร้อมใช้งานขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบัน การตรวจสอบ และการยืนยันการกำหนดค่า

Varian E500 ion source and beamline

78795246-af11-4425-9668-b0f4af6d07ef