SAMCO PD-3800L은 실리콘 질화물, 실리콘 이산화물 및 실리콘 산화질화물 박막을 증착할 수 있는 소형 PECVD 시스템으로, 이러한 재료는 전력 반도체의 표면 보호층 및 보호층으로 일반적으로 사용됩니다.
안정적인 RF 전력 제어와 최적화된 가스 혼합 기술은 웨이퍼 전체에 걸쳐 탁월한 박막 균일성을 보장합니다. 챔버 설계는 입자 발생을 최소화하여 소량 배치 및 파일럿 규모 생산에 적합한 깨끗한 증착 결과를 제공합니다.
이 장비는 간편한 레시피 설정, 편리한 유지보수, 접근성이 좋은 챔버 개구부를 제공하여 탁월한 공정 유연성을 제공합니다. 안정적인 박막 스택을 제작하고자 하는 연구 개발 연구소 및 소규모 웨이퍼 제조 시설에 이상적입니다.
SAMCO PD-3800L 주요 사양
| 제조업체 | 삼코 |
|---|---|
| 모델 | PD-3800L |
| 장비 유형 | 로드락 배치 PECVD 시스템 |
| 증착 기술 | 플라즈마 강화 화학 기상 증착 |
| 최대 처리 영역 | 캐리어 트레이 영역의 직경은 약 360mm입니다. |
| 게시된 웨이퍼 로딩 | 캐리어 트레이에 따라 최대 9×3인치, 6×4인치 또는 3×6인치 웨이퍼를 수용할 수 있습니다. |
| 공개된 영화 자료 | SiO2, SiN, SiON 및 비정질 실리콘 |
| 공개된 프로세스 예시 | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, 액체 전구체 SiNx 및 TEOS-SiO2 |
| 웨이퍼 로딩 | 트레이 기반 배치 처리 기능을 갖춘 로드록 챔버 |
| 제어 인터페이스 | 공개된 플랫폼에서 터치스크린을 이용한 파라미터 제어 및 레시피 저장 기능 제공 |
| 상태 | 중고 반도체 장비 |
| 유효성 | 현재 재고 상황, 운송업체 구성 및 검사 확인 결과에 따라 변동될 수 있습니다. |
