SAMCO PD-3800L là một hệ thống PECVD nhỏ gọn có khả năng lắng đọng các lớp màng silicon nitride, silicon dioxide và silicon oxynitride—những vật liệu thường được sử dụng để thụ động hóa bề mặt và các lớp bảo vệ trong chất bán dẫn công suất.
Việc kiểm soát công suất RF ổn định và công nghệ trộn khí tối ưu đảm bảo độ đồng nhất màng tuyệt vời trên toàn bộ tấm wafer. Thiết kế buồng giảm thiểu sự phát sinh hạt, đảm bảo kết quả lắng đọng sạch cho sản xuất theo lô nhỏ và quy mô thí điểm.
Công cụ này cung cấp khả năng thiết lập công thức dễ dàng, bảo trì thuận tiện và cửa buồng dễ tiếp cận, mang lại tính linh hoạt vượt trội trong quy trình. Nó lý tưởng cho các phòng thí nghiệm nghiên cứu và phát triển cũng như các nhà máy sản xuất wafer quy mô nhỏ đang tìm cách tạo ra các lớp màng mỏng đáng tin cậy.
Thông số kỹ thuật chính của SAMCO PD-3800L
| Nhà sản xuất | SAMCO |
|---|---|
| Người mẫu | PD-3800L |
| Loại thiết bị | Hệ thống PECVD theo lô có buồng nạp |
| Công nghệ lắng đọng | lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma |
| Diện tích xử lý tối đa | Diện tích khay đựng có đường kính khoảng 360 mm. |
| Đã xuất bản Tải wafer | Có thể chứa tối đa 9 tấm wafer kích thước 3 inch, 6 tấm wafer kích thước 4 inch hoặc 3 tấm wafer kích thước 6 inch, tùy thuộc vào khay đựng. |
| Tài liệu phim đã xuất bản | SiO2, SiN, SiON và silicon vô định hình |
| Ví dụ về quy trình đã được công bố | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, tiền chất lỏng SiNx và TEOS-SiO2 |
| Nạp wafer | Buồng khóa tải với quy trình xử lý theo lô dựa trên khay |
| Giao diện điều khiển | Điều khiển thông số bằng màn hình cảm ứng và lưu trữ công thức trên nền tảng đã xuất bản. |
| Tình trạng | Thiết bị bán dẫn đã qua sử dụng |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào lượng hàng hiện có, cấu hình máy bay và xác nhận kiểm tra. |
