SAMCO PD-3800Lは、シリコン窒化物、シリコン二酸化物、シリコン酸窒化物の薄膜を成膜できるコンパクトなPECVDシステムです。これらの材料は、パワー半導体の表面パッシベーションや保護層として一般的に使用されています。
安定したRF電力制御と最適化されたガス混合技術により、ウェハ全体にわたって優れた膜均一性を実現します。チャンバー設計により粒子発生を最小限に抑え、小ロット生産やパイロットスケール生産においてもクリーンな成膜結果を保証します。
この装置は、レシピ設定が容易で、メンテナンスも簡単で、チャンバー開口部もアクセスしやすいため、優れたプロセス柔軟性を提供します。信頼性の高い薄膜積層構造の作製を目指す研究開発ラボや小規模ウェハ製造工場に最適です。
SAMCO PD-3800Lの主な仕様
| メーカー | サムコ |
|---|---|
| モデル | PD-3800L |
| 機器の種類 | ロードロック式バッチPECVDシステム |
| 成膜技術 | プラズマ強化化学気相成長法 |
| 最大処理エリア | 直径約360mmのキャリートレイエリア |
| 公開されたウェハーローディング | キャリアトレイの種類に応じて、最大9枚の3インチ、6枚の4インチ、または3枚の6インチウェハを搭載可能。 |
| 公開された映画資料 | SiO2、SiN、SiON、および非晶質シリコン |
| 公開されているプロセス例 | SiH4-SiNx、SiH4-SiO2、液状前駆体SiNx、およびTEOS-SiO2 |
| ウェーファーロード | トレイ式バッチ処理を備えたロードロックチャンバー |
| 制御インターフェース | 公開プラットフォームにおけるタッチスクリーンによるパラメータ制御とレシピ保存 |
| 状態 | 中古半導体製造装置 |
| 可用性 | 現在の在庫状況、運送業者の構成、検査確認状況によります。 |
