SAMCO PD-3800L เป็นระบบ PECVD ขนาดกะทัดรัดที่สามารถใช้ในการสร้างฟิล์มซิลิคอนไนไตรด์ ซิลิคอนไดออกไซด์ และซิลิคอนออกซีไนไตรด์ ซึ่งเป็นวัสดุที่นิยมใช้สำหรับการเคลือบผิวและการสร้างชั้นป้องกันในเซมิคอนดักเตอร์กำลังไฟฟ้า
การควบคุมกำลังไฟฟ้า RF ที่เสถียรและเทคโนโลยีการผสมก๊าซที่ได้รับการปรับให้เหมาะสม ช่วยให้ได้ฟิล์มที่มีความสม่ำเสมอดีเยี่ยมทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ การออกแบบห้องช่วยลดการเกิดอนุภาค ทำให้ได้ผลลัพธ์การเคลือบที่สะอาด เหมาะสำหรับการผลิตในปริมาณน้อยและระดับนำร่อง
เครื่องมือนี้มีระบบการตั้งค่าสูตรที่ง่าย การบำรุงรักษาที่สะดวก และช่องเปิดภายในที่เข้าถึงได้ง่าย ทำให้มีความยืดหยุ่นในการทำงานสูง เหมาะอย่างยิ่งสำหรับห้องปฏิบัติการวิจัยและพัฒนา และโรงงานผลิตเวเฟอร์ขนาดเล็กที่ต้องการสร้างแผ่นฟิล์มบางที่มีความน่าเชื่อถือ
ข้อมูลจำเพาะหลักของ SAMCO PD-3800L
| ผู้ผลิต | แซมโค |
|---|---|
| แบบอย่าง | พีดี-3800แอล |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบ PECVD แบบชุดล็อคโหลด |
| เทคโนโลยีการตกตะกอน | การตกตะกอนไอสารเคมีที่เสริมด้วยพลาสมา |
| พื้นที่ประมวลผลสูงสุด | พื้นที่ถาดรองรับมีเส้นผ่านศูนย์กลางประมาณ 360 มม. |
| เผยแพร่การโหลดเวเฟอร์ | สามารถบรรจุเวเฟอร์ขนาด 9 × 3 นิ้ว, 6 × 4 นิ้ว หรือ 3 × 6 นิ้ว ได้ ขึ้นอยู่กับถาดรองรับ |
| เอกสารภาพยนตร์ที่เผยแพร่ | SiO2, SiN, SiON และซิลิคอนอสัณฐาน |
| ตัวอย่างกระบวนการที่เผยแพร่แล้ว | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, SiNx ชนิดสารตั้งต้นเหลว และ TEOS-SiO2 |
| การโหลดเวเฟอร์ | ห้องล็อคโหลดพร้อมระบบประมวลผลแบบชุดโดยใช้ถาด |
| อินเทอร์เฟซควบคุม | การควบคุมพารามิเตอร์ด้วยหน้าจอสัมผัสและการบันทึกสูตรอาหารในแพลตฟอร์มที่เผยแพร่แล้ว |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าคงคลังในปัจจุบัน การกำหนดค่าของตัวขนส่ง และการยืนยันการตรวจสอบ |
