SAMCO PD-3800L ialah sistem PECVD padat yang mampu memendapkan filem silikon nitrida, silikon dioksida dan silikon oksinitrida—bahan yang biasa digunakan untuk pempasifan permukaan dan lapisan pelindung dalam semikonduktor kuasa.
Kawalan kuasa RF yang stabil dan teknologi pencampuran gas yang dioptimumkan memastikan keseragaman filem yang sangat baik merentasi wafer. Reka bentuk ruang meminimumkan penjanaan zarah, menjamin hasil pemendapan yang bersih untuk pengeluaran kelompok kecil dan berskala rintis.
Alat ini menawarkan persediaan resipi yang mudah, penyelenggaraan yang mudah dan bukaan ruang yang mudah diakses, memberikan fleksibiliti proses yang luar biasa. Ia sesuai untuk makmal R&D dan fabrik wafer berskala kecil yang ingin menghasilkan susunan filem nipis yang andal.
Spesifikasi Utama SAMCO PD-3800L
| Pengilang | SAMCO |
|---|---|
| Model | PD-3800L |
| Jenis Peralatan | Sistem PECVD Kelompok Kunci Beban |
| Teknologi Pemendapan | Pemendapan wap kimia yang dipertingkatkan plasma |
| Kawasan Pemprosesan Maksimum | Lebih kurang 360 mm diameter kawasan dulang pembawa |
| Pemuatan Wafer yang Diterbitkan | Sehingga wafer 9 × 3 inci, 6 × 4 inci atau 3 × 6 inci, bergantung pada dulang pembawa |
| Bahan Filem yang Diterbitkan | SiO2, SiN, SiON dan silikon amorfus |
| Contoh Proses yang Diterbitkan | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, prekursor cecair SiNx dan TEOS-SiO2 |
| Pemuatan Wafer | Ruang kunci beban dengan pemprosesan kelompok berasaskan dulang |
| Antara Muka Kawalan | Kawalan parameter skrin sentuh dan penyimpanan resipi dalam platform yang diterbitkan |
| Keadaan | Peralatan semikonduktor terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa, konfigurasi pembawa dan pengesahan pemeriksaan |
