성숙한 웨이퍼 제조 공정에 필수적인 리소그래피 트랙 툴인 DNS SKW80 통합형 코팅 및 현상 시스템 6/8인치 웨이퍼용 포토레지스트 공정을 간소화합니다. 코팅, 베이킹 및 현상 워크플로우를 통합하여 안정적인 리소그래피 패터닝을 위한 일관된 노광 전 및 노광 후 처리를 제공합니다.
컴팩트한 단일 블록 아키텍처와 유연성을 갖도록 설계되었습니다. 1C+2D 공정 구성이 시스템은 고정밀 포토레지스트 스피닝, 균일한 필름 도포 및 정확한 패턴 현상을 지원합니다. 신뢰할 수 있는 HMDS 처리 및 온도 제어 모듈을 탑재하여 코팅 결함과 패턴 왜곡을 제거하고 웨이퍼 내 균일성을 탁월하게 보장합니다.
간소화된 설계로 불필요한 가동 중지 시간을 줄이고 일상적인 유지보수를 간소화합니다. 이 트랙은 기존 클린룸 라인에 원활하게 통합되어 포토리소그래피 출력을 안정적으로 유지하고 웨이퍼 배치 간의 변동성을 줄일 수 있습니다.
DNS SKW80 주요 사양
| 제조업체 | DNS |
|---|---|
| 모델 | SKW80 |
| 장비 유형 | 웨이퍼 코팅기 및 현상기 트랙 시스템 |
| 지원되는 웨이퍼 크기 | 공개된 목록에 따르면 6인치 및 8인치 웨이퍼입니다. |
| 나열된 프로세스 구성 | 1C+2D, 2C 또는 2D; 실제로 설치된 모듈을 확인해야 합니다. |
| 1차 프로세스 | 포토레지스트 코팅 및 현상 |
| 상태 | 중고 반도체 장비 |
| 유효성 | 현재 재고 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다. |
주요 장비 특징
150mm 및 200mm 웨이퍼 처리용으로 설계되었습니다.
포토레지스트 코팅 및 현상 단계에 적합합니다.
제공되는 목록에는 참조 코팅 및 개발 모듈 조합이 포함되어 있습니다.
반도체 포토리소그래피 공정 라인에 적용 가능
실제 열, 전달 및 화학 물질 공급 구성은 다를 수 있습니다.
