Là một công cụ theo dõi quang khắc tiêu chuẩn cho quy trình sản xuất wafer tiên tiến, DNS SKW80 tích hợp. hệ thống phủ và phát triển Phần mềm này tối ưu hóa quy trình xử lý chất cản quang hoàn chỉnh cho các tấm wafer 6/8 inch. Nó thống nhất các quy trình phủ, nung và phát triển, mang lại khả năng xử lý trước và sau khi chiếu sáng nhất quán để tạo ra các mẫu quang khắc ổn định.
Được xây dựng với kiến trúc khối đơn nhỏ gọn và linh hoạt. Cấu hình quy trình 1C+2DHệ thống này hỗ trợ quá trình quay ly tâm chất cản quang độ chính xác cao, trải màng đồng đều và phát triển mẫu chính xác. Được trang bị các mô-đun xử lý HMDS đáng tin cậy và điều khiển nhiệt độ, hệ thống loại bỏ các khuyết tật lớp phủ và biến dạng mẫu, đảm bảo độ đồng nhất tuyệt vời trong phạm vi tấm wafer.
Thiết kế tinh gọn giúp giảm thiểu thời gian ngừng hoạt động không cần thiết và đơn giản hóa việc bảo trì định kỳ. Hệ thống có thể tích hợp liền mạch vào các dây chuyền phòng sạch hiện có để duy trì sản lượng quang khắc ổn định và giảm sự biến động giữa các lô wafer.
Thông số kỹ thuật chính của DNS SKW80
| Nhà sản xuất | DNS |
|---|---|
| Người mẫu | SKW80 |
| Loại thiết bị | Hệ thống theo dõi máy phủ và phát triển wafer |
| Kích thước wafer được hỗ trợ | Theo danh sách hiện có, có các loại wafer 6 inch và 8 inch. |
| Các cấu hình quy trình được liệt kê | 1C+2D, 2C hoặc 2D; cần xác nhận số mô-đun thực tế đã lắp đặt. |
| Quá trình chính | Phủ lớp cản quang và quá trình phát triển |
| Tình trạng | Thiết bị bán dẫn đã qua sử dụng |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào tình trạng hàng tồn kho hiện tại và xác nhận cấu hình. |
Các tính năng chính của thiết bị
Được thiết kế để xử lý tấm wafer 150 mm và 200 mm.
Thích hợp cho các bước phủ và tráng phủ chất cản quang.
Các danh sách hiện có đề cập đến sự kết hợp giữa mô-đun phủ và mô-đun phát triển.
Áp dụng cho các dây chuyền xử lý quang khắc bán dẫn
Cấu hình thực tế về cung cấp nhiệt, truyền nhiệt và hóa chất có thể khác nhau.
