Alat trek litografi ruji untuk fabrikasi wafer matang, DNS SKW80 bersepadu sistem penyalut dan pembangun Memperkemas pemprosesan fotoresis penuh untuk wafer 6/8 inci. Ia menyatukan aliran kerja salutan, pembakaran dan pembangunan, memberikan rawatan pra-pendedahan dan pasca-pendedahan yang konsisten untuk pencorak litografi yang stabil.
Dibina dengan seni bina blok tunggal yang padat dan fleksibel Konfigurasi proses 1C+2D, sistem ini menyokong pemintalan fotoresis berketepatan tinggi, peletakan filem seragam dan pembangunan corak yang tepat. Dilengkapi dengan modul rawatan dan kawalan suhu HMDS yang andal, ia menghapuskan kecacatan salutan dan herotan corak, sekali gus menjamin keseragaman dalam wafer yang sangat baik.
Reka bentuknya yang ramping mengurangkan masa henti yang tidak perlu dan memudahkan servis rutin. Trek ini boleh dimasukkan dengan lancar ke dalam talian bilik bersih sedia ada untuk memastikan output fotolitografi stabil dan mengurangkan kebolehubahan merentasi kelompok wafer.
Spesifikasi Utama DNS SKW80
| Pengilang | DNS |
|---|---|
| Model | SKW80 |
| Jenis Peralatan | Sistem Pelapis Wafer dan Trek Pembangun |
| Saiz Wafer yang Disokong | Wafer 6 inci dan 8 inci, mengikut senarai yang tersedia |
| Konfigurasi Proses Tersenarai | 1C+2D, 2C atau 2D; modul sebenar yang dipasang mesti disahkan |
| Proses Utama | Salutan fotoresis dan pembangunan |
| Keadaan | Peralatan semikonduktor terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa dan pengesahan konfigurasi |
Ciri-ciri Peralatan Utama
Direka untuk pemprosesan wafer 150 mm dan 200 mm
Sesuai untuk salutan fotoresis dan langkah-langkah pembangunan
Penyenaraian rujukan yang tersedia untuk salutan dan kombinasi modul pembangunan
Berkenaan dengan barisan proses fotolitografi semikonduktor
Konfigurasi bekalan haba, pemindahan dan kimia sebenar boleh berbeza-beza
