DNS SKW80 เป็นเครื่องมือสำคัญในกระบวนการพิมพ์หิน (lithography) สำหรับการผลิตเวเฟอร์ที่ได้มาตรฐานแล้ว ระบบเคลือบและพัฒนาภาพ ช่วยให้กระบวนการผลิตโฟโตเรซิสต์สำหรับเวเฟอร์ขนาด 6/8 นิ้วมีความคล่องตัวยิ่งขึ้น โดยรวมขั้นตอนการเคลือบ การอบ และการล้างเข้าด้วยกัน ทำให้ได้การเตรียมพื้นผิวก่อนและหลังการฉายแสงที่สม่ำเสมอ เพื่อการสร้างลวดลายลิโทกราฟีที่เสถียร
สร้างด้วยสถาปัตยกรรมแบบบล็อกเดี่ยวขนาดกะทัดรัดและมีความยืดหยุ่น การกำหนดค่ากระบวนการ 1C+2Dระบบนี้รองรับการปั่นโฟโตเรซิสต์ที่มีความแม่นยำสูง การวางฟิล์มที่สม่ำเสมอ และการพัฒนาลวดลายที่แม่นยำ พร้อมด้วยโมดูลการบำบัด HMDS ที่เชื่อถือได้และโมดูลควบคุมอุณหภูมิ ช่วยขจัดข้อบกพร่องในการเคลือบและการบิดเบี้ยวของลวดลาย ทำให้มั่นใจได้ถึงความสม่ำเสมอที่ยอดเยี่ยมภายในเวเฟอร์
การออกแบบที่เพรียวบางช่วยลดเวลาหยุดทำงานที่ไม่จำเป็นและทำให้การบำรุงรักษาตามปกติทำได้ง่ายขึ้น รางนี้สามารถเชื่อมต่อเข้ากับสายการผลิตในห้องปลอดเชื้อที่มีอยู่ได้อย่างราบรื่น เพื่อรักษาระดับผลผลิตของกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีให้คงที่และลดความแปรปรวนระหว่างเวเฟอร์แต่ละชุด
ข้อมูลจำเพาะหลักของ DNS SKW80
| ผู้ผลิต | เอ็นเอสดี |
|---|---|
| แบบอย่าง | สควี80 |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบเคลือบเวเฟอร์และระบบติดตามการพัฒนา |
| ขนาดเวเฟอร์ที่รองรับ | ตามรายการสินค้าที่มีอยู่ ระบุว่าเป็นเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้วและ 8 นิ้ว |
| รายการการกำหนดค่ากระบวนการ | 1C+2D, 2C หรือ 2D; ต้องตรวจสอบโมดูลที่ติดตั้งจริงอีกครั้ง |
| กระบวนการหลัก | การเคลือบและการพัฒนาสารต้านทานแสง |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบันและการยืนยันการกำหนดค่า |
คุณสมบัติหลักของอุปกรณ์
ออกแบบมาสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์ขนาด 150 มม. และ 200 มม.
เหมาะสำหรับขั้นตอนการเคลือบและการพัฒนาสารไวแสง
รายการที่มีอยู่จะอ้างอิงถึงชุดค่าผสมของโมดูลการเคลือบและการพัฒนา
เหมาะสำหรับสายการผลิตโฟโตลิโทกราฟีสำหรับเซมิคอนดักเตอร์
การกำหนดค่าความร้อน การถ่ายเทความร้อน และการจ่ายสารเคมีในความเป็นจริงอาจแตกต่างกันไป
