Sistem pembersihan wafer SEMES BLUEICE PRIME 300mm menawarkan keseragaman suhu yang luar biasa dan kawalan kimia yang tepat, cemerlang terutamanya dalam operasi pengukiran dan penanggalan asid fosforik suhu tinggi. Reka bentuk chuck uniknya meminimumkan sisihan terma, dengan berkesan menghilangkan bahan cemar permukaan sambil melindungi corak wafer halus daripada kerosakan.
Sistem ini menyokong pelarasan resipi fleksibel untuk pelbagai proses basah dan mengekalkan kadar kecacatan yang sangat rendah, walaupun semasa pengeluaran jangka panjang dengan volum tinggi. Sama ada anda menaik taraf peralatan pemprosesan basah sedia ada atau mengembangkan kapasiti pengeluaran, sistem ini merupakan pilihan yang boleh dipercayai untuk meningkatkan hasil wafer.
Hubungi kami hari ini untuk membincangkan keperluan cucian basah anda dan dapatkan sebut harga yang kompetitif.
Spesifikasi Teknikal SEMES BLUEICE PRIME
| Parameter | Penerangan |
|---|---|
| Jenis Peralatan | Sistem pembersihan wafer tunggal |
| Pengilang | SEMES |
| Model | BLUEICE PRIME |
| Saiz Wafer | 300mm |
| Jenis Proses | Pembersihan wafer basah |
| Aplikasi Utama | Pembuatan semikonduktor logik dan memori |
| Teknologi Pembersihan | Pembersihan asid fosforik suhu tinggi |
| Sasaran | Zarah, sisa, pencemaran permukaan |