RUMAH > Produk > Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan > Peralatan Pemprosesan Termal >
Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan

Peralatan Pemprosesan Terma Semikonduktor

Layari dan cari peralatan pemprosesan haba semikonduktor terpakai untuk pengoksidaan, resapan, penyepuhlindapan dan pemprosesan haba pantas. Kategori ini termasuk relau kelompok menegak dan mendatar, platform RTP dan RTA wafer tunggal, dan sistem haba khusus.

Untuk penggantian, pengembangan kapasiti atau penerusan proses yang telah ditetapkan, setiap sistem harus dikaji semula berdasarkan tujuan proses, konfigurasi tiub atau modul proses, bajet terma, atmosfera dan pengendalian wafer.

Hantar pengilang, model, saiz wafer atau profil haba sasaran untuk mula menyemak peralatan yang sesuai, keserasian konfigurasi dan keperluan fabrikasi praktikal.

Layari Peralatan yang Tersedia Bincangkan Keperluan Peralatan
Relau KelompokPengoksidaan berbilang wafer, resapan dan kitaran haba yang lebih lama
Menegak & MendatarSusun atur, kaedah pemuatan dan tahap automasi yang berbeza
RTP / RTAPemanasan pantas wafer tunggal dan pendedahan haba terkawal
Aneal KhasMilisaat, laser atau rawatan haba khusus yang lain
Peralatan Semasa

02Peralatan Pemprosesan Terma Semikonduktor Terpakai yang Tersedia

Layari pilihan semasa kami bagi sistem pemprosesan haba terpakai untuk pembuatan wafer semikonduktor. Tiub atau modul proses, sistem pemanas atau lampu, konfigurasi gas, kuarza, kawalan suhu dan pengendalian wafer mesti disahkan untuk mesin tertentu.

Sumber Peralatan

Perlukan Platform Relau atau RTP Tertentu?

Jika platform yang diperlukan tidak ditunjukkan dalam senarai semasa, hantarkan pengilang, model, tujuan proses, saiz wafer atau platform pengeluaran sedia ada. Kami boleh menyemak peralatan masuk dan pilihan sumber berasaskan permintaan.

Hantar Permintaan Model atau Platform
Arah Peralatan

03Memilih Antara Relau Kelompok, RTP dan Sistem Termal Khusus

Mulakan dengan isipadu wafer, panjang kitaran terma dan tahap kawalan suhu-masa yang diperlukan oleh proses tersebut. Tiga arah ini membantu mempersempit carian sebelum mesin tertentu disemak.

Pilih arah pemprosesan terlebih dahulu, kemudian sahkan konfigurasi sebenar.

Nama peralatan sahaja tidak mencukupi. Kesesuaian akhir masih bergantung pada tiub atau modul proses, sistem pemanasan, konfigurasi gas, kawalan suhu dan pengendalian wafer yang disertakan dengan mesin.

BF

Sistem Relau Kelompok

Titik permulaan praktikal untuk proses berbilang wafer yang biasanya dijalankan untuk kitaran terma yang lebih lama.

Titik Permulaan Terbaik Untuk

  • Pengoksidaan kering atau basah
  • Difusi atau dopan pandu masuk
  • Penyepuhlindapan jangka panjang
  • Proses terma kelompok lain yang telah ditetapkan
Apa yang Masih Perlu Disemak

Susun atur menegak atau mendatar, konfigurasi tiub dan gas, kapasiti kelompok, bot wafer, automasi pemuatan dan penggunaan proses sebelumnya.

RTP

Sistem RTP / RTA

Titik permulaan praktikal untuk proses wafer tunggal yang memerlukan pemanasan, penyejukan dan kawalan bajet terma yang lebih ketat.

Titik Permulaan Terbaik Untuk

  • Pengaktifan implan
  • Pengoksidaan atau nitridasi terma yang cepat
  • Pembentukan silisida
  • Rendam, lonjakan atau kitaran haba pendek yang lain
Apa yang Masih Perlu Disemak

Kadar tanjakan, suhu puncak, masa tinggal, sistem lampu atau pemanas, pengukuran suhu dan pengendalian wafer tunggal.

ST

Sistem Terma Khusus

Titik permulaan praktikal untuk bahan wafer khusus, tempoh proses yang sangat pendek atau kaedah penghantaran tenaga terkawal.

Titik Permulaan Terbaik Untuk

  • Anil milisaat
  • Pemprosesan terma berasaskan laser
  • Rawatan suhu tinggi khas
  • Proses atmosfera atau vakum khas
Apa yang Masih Perlu Disemak

Bahan wafer, reka bentuk penghantaran tenaga, atmosfera, tetingkap proses, perisian dan konfigurasi platform sebenar.

saya
Kategori-kategori ini memberikan hala tuju permulaan dan bukannya tugasan tetap. Sesetengah platform relau kelompok juga mungkin menyokong LPCVD atau proses lain bergantung pada tiub yang dipasang, sistem gas dan konfigurasi asal.
Ulasan Platform Fit

04Lima Semakan Sebelum Membeli Sistem Pemprosesan Terma Terpakai

Mencapai suhu sasaran hanyalah satu bahagian daripada keputusan tersebut. Relau atau platform RTP terpakai juga harus diperiksa untuk sejarah proses, kawalan terma, pengendalian wafer, keperluan kemudahan dan keadaan operasi jangka panjang.

Sejarah Proses Kawalan Terma Pengendalian Wafer Suasana & Kemudahan Operasi Jangka Panjang
1

Penggunaan Proses dan Sejarah Relau

Semak semula proses pengoksidaan, resapan, penyepuhlindapan atau khusus yang dimaksudkan, operasi kering atau basah jika berkaitan, bahan yang telah diproses sebelum ini dan rekod keadaan atau sejarah proses tiub, reaktor dan kuarza yang tersedia.

Elakkan memilih mesin yang kelihatan sesuai mengikut nama model tetapi mempunyai penggunaan proses terdahulu atau risiko pencemaran yang tidak sesuai dengan produk sasaran.
2

Profil Terma dan Kawalan Suhu

Semak suhu sasaran, tingkah laku naik dan turun, keupayaan rendaman atau lonjakan, maklumat keseragaman yang tersedia, zon pemanasan, lampu dan konfigurasi sensor.

Elakkan sistem yang mencapai suhu sasaran tetapi tidak dapat memenuhi bajet terma, kadar tanjakan atau keadaan kawalan suhu yang diperlukan semasa kelayakan.
3

Wafer, Bot dan Automasi

Semak saiz dan bahan wafer, kapasiti kelompok, bot wafer dan kuarza, format kaset atau FOUP, pemuat, robot dan konfigurasi pemindahan.

Elakkan membeli platform berkemampuan proses yang saiz wafer, bot atau konfigurasi pengendaliannya tidak dapat bersambung dengan barisan pengeluaran sedia ada.
4

Keperluan Suasana dan Kemudahan

Semak proses atmosfera, penghantaran gas, vakum, ekzos dan pengurangan, penyejukan, beban elektrik, saling kunci keselamatan dan sistem sokongan yang disertakan.

Elakkan menerima mesin sebelum mengesahkan bahawa infrastruktur gas, vakum, ekzos, penyejukan dan utiliti yang tersedia dapat menyokong konfigurasi sebenarnya.
5

Keadaan Operasi Jangka Panjang

Semak keadaan pemanas atau lampu, maklumat keadaan tiub yang tersedia, pengedap, sensor suhu, pengawal, versi perisian, rekod penyelenggaraan dan keperluan alat ganti yang diketahui.

Elakkan menambah alat yang berfungsi secara teknikal tetapi mengakibatkan masa henti, beban penyelenggaraan atau kos penggantian yang berlebihan semasa pengeluaran.

Semak sejarah proses, kawalan terma, pengendalian wafer dan keadaan kemudahan sebelum menggunakan sistem tertentu.

Hantarkan model, platform semasa, tujuan proses, saiz wafer, suhu sasaran atau profil terma dan maklumat peralatan yang tersedia.

Minta Semakan Kesesuaian Termal
Nilai Peralatan Terpakai

05Mengapa Pembeli Mempertimbangkan Peralatan Pemprosesan Terma Terpakai

Platform terma terpakai adalah paling berharga apabila konfigurasi sebenarnya sesuai dengan resipi, tapak terpasang dan persekitaran pengeluaran yang telah ditetapkan.

Senario Teras

Teruskan Proses Termal yang Ditetapkan

Resipi terma yang disahkan boleh bergantung pada tiub relau tertentu, zon pemanasan, talian gas, tingkah laku pengawal dan konfigurasi pengendalian wafer yang digunakan untuk menjalankannya.

Apabila sistem yang dipasang telah usang atau platform asal tidak lagi praktikal untuk digantikan dengan peralatan baharu, sistem terpakai yang cukup serupa boleh mengurangkan skop pemindahan proses dan kelayakan semula di samping mengurangkan komitmen modal awal.

Platform yang serupa tidak menghasilkan semula proses sedia ada secara automatik. Keserasian akhir masih bergantung pada konfigurasi mesin sebenar.

Gantikan Relau yang Sudah Tua atau Dihentikan

Semak semula keluarga platform yang sama atau sistem lain yang sesuai apabila peralatan baharu tidak lagi praktikal untuk proses yang sedia ada.

Tambah Kapasiti Kelompok atau Wafer Tunggal

Kembangkan pengeluaran dengan hala tuju platform yang telah ditetapkan di barisan pengeluaran sambil mengekalkan pendekatan proses terma asas.

Semak Keperluan Konfigurasi Berkaitan

Keperluan tiub, bot, pemuat, pengawal atau sistem tambahan boleh disemak bersama-sama dengan permintaan peralatan utama apabila maklumat model dan konfigurasi yang mencukupi tersedia.

Penghantaran dan Sokongan

06Penghantaran dan Sokongan untuk Sistem Pemprosesan Termal

Sistem pemprosesan terma termasuk barangan kuarza rapuh, pemasangan pemanasan, perkakasan kawalan suhu dan pengendalian wafer automatik. Konfigurasi sebenar dan skop penghantaran hendaklah didokumenkan dengan jelas sebelum penghantaran.

01

Sebelum Penghantaran

  • Sahkan alat utama, tiub proses atau modul dan aksesori yang disertakan
  • Rekodkan konfigurasi pemanas atau lampu, bot, pemuat dan pengendalian
  • Sahkan pam, penyejukan dan peralatan tambahan lain yang termasuk dalam skop
  • Kumpulkan manual, perisian dan dokumentasi kemudahan yang tersedia
  • Tentukan tanggungjawab penyahpasangan, pembungkusan, pengangkutan dan senarai penghantaran
02

Pengangkutan dan Ketibaan

  • Lindungi tiub proses, bot wafer dan barang kuarza rapuh semasa transit
  • Pemuat, robot dan pemasangan bergerak lain yang selamat
  • Lindungi pemanas, lampu, sensor dan sambungan vakum
  • Sahkan keadaan pengangkatan, pergerakan dan pengangkutan sebelum penghantaran
  • Periksa pembungkusan, aksesori dan kerosakan pengangkutan yang boleh dilihat sebelum pemasangan atau penghidupan
03

Sokongan untuk Sistem Sedia Ada atau Sistem yang Dihantar

  • Semak log penggera dan sejarah kerosakan yang disediakan
  • Bantu kurangkan kemungkinan masalah kawalan suhu, pemanas, lampu, vakum atau pengendalian
  • Semak maklumat pengawal, perisian dan sensor yang tersedia
  • Kenal pasti maklumat tiub, bot, kuarza atau modul yang diperlukan untuk pemadanan
  • Menyelaras langkah penyelesaian masalah, permulaan atau pemulihan praktikal yang seterusnya

Pemasangan penuh di tapak, pembangunan proses dan penyelenggaraan jangka panjang tidak disertakan secara lalai. Sebarang kerja sedemikian mesti disahkan dalam sebut harga akhir dan skop perkhidmatan.

Minta Sokongan Sistem Pemprosesan Terma
Soalan Lazim

07Soalan Lazim Peralatan Pemprosesan Termal

Soalan-soalan ini merangkumi isu utama yang dihadapi pembeli semasa menyemak relau semikonduktor terpakai dan sistem pemprosesan terma pantas.

Apakah perbezaan antara relau kelompok dan sistem RTP?

Relau kelompok memproses pelbagai wafer bersama-sama dan biasanya digunakan untuk pengoksidaan, resapan dan kitaran haba yang lebih lama. Sistem RTP biasanya memproses satu wafer pada satu masa dengan pemanasan dan penyejukan yang lebih pantas dalam kitaran yang lebih pendek. Arah yang betul bergantung pada bajet haba yang diperlukan, daya pemprosesan, pengendalian wafer dan konfigurasi peralatan sebenar.

Bolehkah platform relau yang sama dikonfigurasikan untuk pengoksidaan, resapan, penyepuhlindapan atau LPCVD?

Ya. Sesetengah keluarga platform boleh menyokong proses yang berbeza bergantung pada tiub atau reaktor yang dipasang, penghantaran gas, konfigurasi suhu dan persediaan kilang asal. Konfigurasi mesin sebenar dan sejarah proses utamanya mesti disemak dan bukannya bergantung pada nama model sahaja.

Apakah maklumat yang diperlukan untuk memadankan sistem pemprosesan terma dengan proses sedia ada?

Maklumat permulaan yang berguna termasuk pengilang dan model, platform semasa, tujuan proses, saiz dan bahan wafer, keperluan kelompok atau wafer tunggal, suhu sasaran dan masa rawatan, keperluan kadar tanjakan atau bajet terma, atmosfera proses dan matlamat penggantian atau kapasiti.

Apakah yang perlu diperiksa sebelum menggantikan relau atau platform RTP terpakai?

Kajian semula tersebut harus membandingkan sejarah tiub, reaktor atau modul proses, profil suhu, kelakuan tanjakan, pengendalian wafer, keperluan gas dan ekzos, persekitaran pengawal, sistem sokongan dan keadaan komponen pemanasan utama dan kuarza.

Bolehkah anda mendapatkan sistem pemprosesan terma yang tidak disenaraikan pada masa ini?

Ya. Hantarkan pengilang, model, saiz wafer, tujuan proses atau platform semasa. Kami boleh menyemak peralatan yang akan datang, maklumat pasaran yang tersedia dan hala tuju sistem yang berpotensi untuk penilaian lanjut. Ketersediaan dan skop akhir bergantung pada peralatan khusus yang dikenal pasti.

08Hantar Keperluan Peralatan Pemprosesan Termal Anda

Mulakan dengan model, papan nama, foto mesin atau keperluan proses sasaran. Kita boleh menyemak hala tuju peralatan, ketersediaan semasa dan soalan konfigurasi utama sebelum pembelian.

Pengilang dan Model Tujuan Proses Saiz dan Bahan Wafer Wafer Kelompok atau Tunggal Suhu Sasaran atau Profil Terma Foto atau Papan Nama
Bincangkan Keperluan Pemprosesan Termal