ASML TWINSCAN AT:1150i เป็นแพลตฟอร์มการพิมพ์หินด้วยของเหลวแบบจุ่มรุ่นแรกๆ ที่แสดงให้เห็นว่าการใช้น้ำบริสุทธิ์พิเศษระหว่างเลนส์ฉายภาพและเวเฟอร์สามารถเพิ่มค่ารูรับแสงเชิงตัวเลขได้ ซึ่งช่วยขยายขอบเขตการพิมพ์หินด้วยแสงอาร์ไฟ 193 นาโนเมตรไปสู่การสร้างลวดลายที่ละเอียดขึ้นเกินขีดจำกัดของการฉายแสงแบบแห้ง
สถาปัตยกรรม TWINSCAN แบบสองขั้นตอนช่วยให้สามารถดำเนินการฉายแสงบนเวเฟอร์และการวัดค่าต่างๆ ได้พร้อมกัน ในขณะที่เวเฟอร์หนึ่งกำลังถูกฉายแสง อีกเวเฟอร์หนึ่งจะได้รับการจัดตำแหน่ง การโฟกัส และการวัดค่าการซ้อนทับ วิธีการนี้ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานในขณะที่ยังคงรักษาการควบคุมการโฟกัสและการซ้อนทับที่แม่นยำสำหรับกระบวนการพิมพ์หินขั้นสูง
ข้อมูลจำเพาะหลักของ ASML AT:1150i
| ผู้ผลิต | เอเอสเอ็มแอล |
|---|---|
| แบบอย่าง | TWINSCAN ที่: 1150i |
| ประเภทอุปกรณ์ | เครื่องสแกนลิโทกราฟีแบบจุ่ม ArF |
| ความยาวคลื่นการเปิดรับแสง | 193 นาโนเมตร |
| รูรับแสงเชิงตัวเลข | 0.75 นั้น |
| ขนาดเวเฟอร์ | 300 มม. |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์มือสอง |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสินค้าในสต็อกปัจจุบันและการยืนยันการกำหนดค่า |
