เครื่อง ASML TWINSCAN XT:1250i นำเทคโนโลยีการพิมพ์หินด้วยแสงอาร์ไฟแบบจุ่มน้ำ 193 นาโนเมตร เข้าสู่กระบวนการพัฒนาขั้นต้นสำหรับการสร้างลวดลายขนาดต่ำกว่า 65 นาโนเมตร โดยการนำน้ำเข้ามาอยู่ระหว่างเลนส์ฉายภาพและเวเฟอร์ ระบบนี้ช่วยเพิ่มค่ารูรับแสงเชิงตัวเลข (numerical aperture) ให้สูงกว่าขีดจำกัดของการฉายแสงอาร์ไฟแบบแห้ง ทำให้สามารถสร้างภาพลวดลายที่ละเอียดขึ้นได้
โครงสร้างแบบสองขั้นตอนของเครื่องนี้แยกการฉายแสงบนเวเฟอร์ออกจากการจัดตำแหน่งและการวัด ทำให้สามารถทำการวัดในขั้นตอนหนึ่งได้ ในขณะที่อีกขั้นตอนหนึ่งทำหน้าที่ฉายแสง กระบวนการทำงานแบบคู่ขนานนี้ช่วยรักษาประสิทธิภาพการทำงานของสแกนเนอร์ ในขณะเดียวกันก็ควบคุมการโฟกัสและการซ้อนทับระหว่างการประมวลผลเวเฟอร์ซ้ำๆ
เครื่อง XT:1250i มีบทบาทสำคัญในการประเมินเทคโนโลยีการพิมพ์หินด้วยความร้อนแบบจุ่มน้ำในระยะเริ่มต้น สำหรับการใช้งานด้านตรรกะและหน่วยความจำ ความสามารถในการสร้างภาพที่แท้จริงนั้นขึ้นอยู่กับการกำหนดค่าทางแสง การตั้งค่าแสง ชั้นของสารต้านทาน และสภาวะของกระบวนการ
