เครื่อง PVA TePla IoN 200 ให้การบำบัดด้วยพลาสมาแบบควบคุมสำหรับพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์ ช่วยขจัดสารตกค้างอินทรีย์และสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิว การทำความสะอาดด้วยพลาสมาแบบลดความเสียหายเครื่องนี้สามารถจัดการกับแผ่นเวเฟอร์ วัสดุผสม และชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ที่บรรจุแล้ว โดยไม่ต้องใช้สารเคมีเปียกที่รุนแรง เหมาะอย่างยิ่งสำหรับขั้นตอนการเตรียมพื้นผิวก่อนการเชื่อมต่อและการเคลือบ
การออกแบบห้องขนาดกะทัดรัด ผสานกับการควบคุมกำลังและก๊าซที่ปรับได้ ช่วยรักษาการกระจายตัวของพลาสมาอย่างสม่ำเสมอทั่วพื้นผิวชิ้นงาน ผู้ปฏิบัติงานสามารถปรับสูตรการทำงานได้อย่างรวดเร็วสำหรับวัสดุต่างๆ ในขณะที่ฮาร์ดแวร์ที่แข็งแรงทนทานช่วยให้การบำรุงรักษาง่ายสำหรับการใช้งานต่อเนื่องในโรงงาน
ข้อมูลเครื่องจักร PVA TePla IoN 200
| ผู้ผลิต | พีวีเอ ฮีท |
|---|---|
| แบบอย่าง | ไอออน 200 |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบประมวลผลพลาสมา RF สุญญากาศ |
| การใช้งานหลัก | การทำความสะอาดพื้นผิว การกระตุ้น และการปรับเปลี่ยน |
| สภาพแวดล้อมการประมวลผล | การรักษาด้วยพลาสมาความดันต่ำ |
| ชิ้นงานทั่วไป | วัสดุพื้นฐานที่เข้ากันได้ แผ่นเวเฟอร์ ชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ และชิ้นส่วนอุตสาหกรรม |
| ความสามารถในการประมวลผลเพิ่มเติม | แอปพลิเคชันที่เกี่ยวข้องกับ PECVD ตามการกำหนดค่าระบบที่ติดตั้ง |
| เงื่อนไข | อุปกรณ์แปรรูปพลาสมามือสอง |
| การกำหนดค่าจริง | ยืนยันตามระบบเฉพาะที่มีอยู่ |
| ขอบเขตการส่งมอบ | อ้างอิงจากใบเสนอราคาและรายการอุปกรณ์ที่ได้รับการยืนยันแล้ว |
| สนับสนุน | การตรวจสอบข้อบกพร่องเบื้องต้น การจับคู่ชิ้นส่วน และการหารือเกี่ยวกับการซ่อมแซม |
| การส่งสินค้า | บรรจุภัณฑ์เพื่อการส่งออกและการจัดส่งทั่วโลก |
