Thiết bị PVA TePla IoN 200 cung cấp khả năng xử lý plasma được kiểm soát cho các chất nền bán dẫn, loại bỏ cặn hữu cơ và các chất gây ô nhiễm bề mặt thông qua quá trình này. làm sạch bằng plasma ít gây hư hạiNó xử lý các tấm bán dẫn, vật liệu phức hợp và chip đóng gói mà không cần hóa chất ướt mạnh, lý tưởng cho các bước chuẩn bị bề mặt trước khi liên kết và lắng đọng.
Thiết kế buồng nhỏ gọn kết hợp với khả năng điều chỉnh công suất và khí giúp duy trì sự phân bố plasma đồng đều trên bề mặt mẫu. Người vận hành có thể nhanh chóng điều chỉnh quy trình cho các vật liệu khác nhau, trong khi phần cứng mạnh mẽ giúp việc bảo trì trở nên đơn giản cho các hoạt động liên tục trong xưởng.
Thông tin máy PVA TePla IoN 200
| Nhà sản xuất | Nhiệt PVA |
|---|---|
| Người mẫu | IoN 200 |
| Loại thiết bị | Hệ thống xử lý plasma RF chân không |
| Ứng dụng chính | Làm sạch, kích hoạt và sửa đổi bề mặt |
| Môi trường xử lý | Điều trị bằng plasma áp suất thấp |
| Các chi tiết gia công điển hình | Các chất nền, tấm bán dẫn, linh kiện điện tử và linh kiện công nghiệp tương thích. |
| Khả năng xử lý bổ sung | Các ứng dụng liên quan đến PECVD theo cấu hình hệ thống đã cài đặt. |
| Tình trạng | Thiết bị xử lý plasma đã qua sử dụng |
| Cấu hình thực tế | Đã được xác nhận theo hệ thống cụ thể hiện có. |
| Phạm vi giao hàng | Dựa trên báo giá và danh sách thiết bị đã được xác nhận. |
| Ủng hộ | Xem xét lỗi ban đầu, lựa chọn linh kiện phù hợp và thảo luận về phương án sửa chữa. |
| Vận chuyển | Đóng gói xuất khẩu và giao hàng toàn cầu |
