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ThinkLaser SigmaDSC 자동 반도체 웨이퍼 하드 마킹 시스템

ThinkLaser SigmaDSC 하드 마킹 시스템은 100~200mm 웨이퍼에 적용 가능하며, 마킹 깊이는 110μm입니다. Class 1 클린룸 환경에서 사용 가능하며, 개방형 카세트 로딩 방식을 채택하고 있습니다. 구매 전 통합 지점 및 공정 적합성을 확인해야 합니다.

ThinkLaser SigmaDSC Automated Semiconductor Wafer Hard-Marking System 장비 이미지
구성 검토 모델 및 설치된 옵션
신규/중고 공급 프로젝트 가능 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
글로벌 배송 목적지 기반 평가
기술 견적 요청 패키지 및 프로세스 매칭

ThinkLaser SigmaDSC는 반도체 웨이퍼에 자동화된 하드 마킹을 수행합니다. 핵심 구성 요소는 듀얼 스팟 광학™(Dual-Spot Optics™), 다이오드 펌프형 고체 레이저 광원 및 폐루프 깊이 제어를 결합하여 영구적인 도트 매트릭스 형태의 각인을 형성합니다. 이 각인은 연속적인 열처리, 에칭 및 연마 공정을 거쳐도 가독성을 유지합니다.

통합 광학 엔진은 소프트웨어를 통해 50μm에서 110μm 사이의 보정된 스폿 조정을 지원합니다. 형상 변경 시 생산 과정 중 하드웨어 교체가 필요하지 않습니다. 펄스 레이저 출력은 펄스 변동을 최소화하여 배치 간 일관된 도트 원형도와 종횡비를 유지합니다. 압흔 깊이 설정은 프로그래밍 가능합니다. 폐쇄 루프 센서는 실시간 레이저 측정값을 수집하여 SPC 로깅 스트림으로 데이터를 전송합니다. 반복적인 수동 샘플링 없이 마크 치수 일관성을 추적할 수 있습니다.

자동화된 기판 처리 및 클린룸 정렬 성능

웨이퍼 이송 장치는 클린룸 환경 내에서 100mm에서 300mm 크기의 기판을 적재 및 하역합니다. 마킹 좌표는 SEMI 레이아웃 규격에 맞춰 정렬됩니다. 도트 매트릭스 방식의 하드 어블레이션으로 깊고 고대비의 식별자를 생성합니다. 비전 시스템과 OCR은 모든 제조 단계에서 이러한 마크를 판독합니다. 조정 가능한 공정 제어를 통해 압흔 깊이, 라인 속도 및 입자 배출량을 조절하여 실리콘 웨이퍼 추적 작업을 연속적으로 수행할 수 있습니다.

ThinkLaser SigmaDSC Wafer Laser Marking Machine

프로세스 및 운영 벤치마크

표: ThinkLaser SigmaDSC 웨이퍼 하드 마킹 시스템의 핵심 공정 사양

매개변수사양
지원되는 웨이퍼 크기100mm / 200mm / 300mm
레이저 마킹 지점 범위50μm – 110μm
마킹 패턴도트 매트릭스 들여쓰기 하드 마크
깊이 조절실시간 폐쇄 루프 감지
표준 준수SEMI 마크 레이아웃 호환 가능
데이터 로깅SPC 규정을 준수하는 추적성 기록

이 벤치마크 표는 핵심 공정 지표를 보여줍니다. 자세한 매개변수는 제품 데이터시트를 다운로드하여 확인할 수 있습니다.