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ThinkLaser SigmaDSC 自動化半導體晶圓硬標記系統

ThinkLaser SigmaDSC 硬標記系統,適用於 100–200mm 晶圓:標記深度 110μm,1 級潔淨室,開放式卡匣裝載。購買前需確認整合點和製程匹配度。

ThinkLaser SigmaDSC Automated Semiconductor Wafer Hard-Marking System 設備圖片
配置審查 型號和安裝選項
全新/二手供應 視項目情況而定
全球配送 基於目的地的評估
技術詢價 包裝和流程匹配

ThinkLaser SigmaDSC 可對半導體晶圓進行自動化硬標記。其核心組件結合了雙光斑光學系統™、二極體泵浦固態雷射光源和閉環深度控制,可形成永久性點陣壓痕標記。標記在連續的熱循環、蝕刻和拋光步驟後仍能保持清晰可辨。

整合式光學引擎支援透過軟體進行 50 μm 至 110 μm 範圍內的光斑校準調整。幾何形狀的改變無需在生產過程中更換硬體。脈衝雷射輸出可保持最小的脈衝波動,從而確保不同批次光斑圓度和縱橫比的一致性。壓痕深度設定可編程。閉環感測器即時採集雷射參數,並將資料傳輸至 SPC 日誌流。無需重複手動取樣即可追蹤標記尺寸的一致性。

自動化基板處理和潔淨室對準性能

晶圓輸送機械裝置在無塵室環境中裝卸 100 毫米至 300 毫米的基片。標記座標符合 SEMI 佈局規範。點陣式硬燒蝕製程產生深而高對比度的標識。視覺系統和 OCR 技術在每個製造階段讀取這些標記。可調製程控制平衡壓痕深度、線速度和顆粒輸出,以實現連續的矽晶圓可追溯性操作。

ThinkLaser SigmaDSC Wafer Laser Marking Machine

流程與營運基準

表格:ThinkLaser SigmaDSC晶圓硬標記系統的核心製程規格

範圍規格
支援的晶圓尺寸100毫米/200毫米/300毫米
雷射打標點範圍50微米 – 110微米
標記圖案點陣壓痕硬標記
深度控制即時閉環感
標準符合性半導體標記佈局相容
數據記錄符合SPC標準的可追溯性記錄

此基準表記錄了核心流程指標;完整的詳細參數可透過產品資料表下載取得。