ASML TWINSCAN AT:1150i는 초순수를 투영 렌즈와 웨이퍼 사이에 넣어 개구수를 증가시킴으로써 193nm ArF 리소그래피를 건식 노광의 한계를 넘어 더욱 미세한 패터닝까지 확장할 수 있음을 보여준 초기 침수 리소그래피 플랫폼입니다.
트윈스캔(TWINSCAN)의 이중 단계 아키텍처는 웨이퍼 노광 및 측정 작업을 병렬로 실행할 수 있도록 합니다. 한 웨이퍼가 노광되는 동안 다른 웨이퍼는 정렬, 초점 조정 및 오버레이 측정을 거칩니다. 이러한 접근 방식은 고급 리소그래피 공정에서 정밀한 초점 및 오버레이 제어를 유지하면서 운영 효율성을 향상시킵니다.
ASML AT:1150i 주요 사양
| 제조업체 | ASML |
|---|---|
| 모델 | 트윈스캔 AT:1150i |
| 장비 유형 | ArF 침수 리소그래피 스캐너 |
| 노출 파장 | 193nm |
| 개구수 | 그 0.75 |
| 웨이퍼 크기 | 300mm |
| 상태 | 중고 반도체 장비 |
| 유효성 | 현재 재고 및 구성 확인 후 변동될 수 있습니다. |
