ASML TWINSCAN AT:1150i ialah platform litografi rendaman awal yang menunjukkan bagaimana air ultra tulen antara kanta unjuran dan wafer boleh meningkatkan apertur berangka, memanjangkan litografi ArF 193 nm kepada corak yang lebih halus melangkaui had pendedahan kering.
Seni bina TWINSCAN dwi-peringkatnya membolehkan operasi pendedahan wafer dan metrologi berjalan secara selari. Semasa satu wafer didedahkan, wafer yang satu lagi menjalani penjajaran, pemfokusan dan pengukuran tindanan. Pendekatan ini meningkatkan kecekapan operasi sambil mengekalkan fokus dan kawalan tindanan yang tepat untuk proses litografi lanjutan.
Spesifikasi Utama ASML AT:1150i
| Pengilang | ASML |
|---|---|
| Model | TWINSCAN AT:1150i |
| Jenis Peralatan | Pengimbas Litografi Rendaman ArF |
| Panjang Gelombang Pendedahan | 193 nm |
| Apertur Berangka | ITU 0.75 |
| Saiz Wafer | 300 mm |
| Keadaan | Peralatan Semikonduktor Terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa dan pengesahan konfigurasi |
