中古のASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArFスキャナー

300mmウェハプロセス開発用のASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF液浸リソグラフィシステムの中古品です。構成、状態、在庫状況についてはお問い合わせください。

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Used ASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF Scanner

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ASML TWINSCAN AT:1150iは、投影レンズとウェーハの間に超純水を用いることで開口数を増加させ、193nm ArFリソグラフィをドライ露光の限界を超えたより微細なパターニングへと拡張できることを実証した、初期の液浸リソグラフィプラットフォームである。

2段階構造のTWINSCANアーキテクチャにより、ウェハ露光と計測処理を並行して実行できます。一方のウェハが露光されている間に、もう一方のウェハでは位置合わせ、焦点合わせ、および重ね合わせ測定が行われます。この方式により、高度なリソグラフィプロセスにおいて、高精度な焦点合わせと重ね合わせ制御を維持しながら、運用効率が向上します。

ASML AT:1150iの主な仕様

メーカー	ASML
モデル	ツインスキャンAT:1150i
機器の種類	ArF液浸リソグラフィスキャナ
露光波長	193 nm
開口数	その0.75
ウェハーサイズ	300 mm
状態	中古半導体製造装置
可用性	現在の在庫状況および構成確認が必要です。