ASML TWINSCAN AT:1150i là một nền tảng in thạch bản ngâm nước đời đầu, đã chứng minh cách nước siêu tinh khiết giữa thấu kính chiếu và tấm wafer có thể tăng khẩu độ số, mở rộng khả năng in thạch bản ArF 193 nm lên độ phân giải cao hơn, vượt xa giới hạn của phương pháp in thạch bản khô.
Kiến trúc TWINSCAN hai giai đoạn cho phép các hoạt động phơi sáng và đo lường trên wafer diễn ra song song. Trong khi một wafer đang được phơi sáng, wafer còn lại trải qua quá trình căn chỉnh, lấy nét và đo lường lớp phủ. Cách tiếp cận này giúp cải thiện hiệu quả hoạt động đồng thời duy trì độ chính xác về lấy nét và kiểm soát lớp phủ cho các quy trình in thạch bản tiên tiến.
Thông số kỹ thuật chính của ASML AT:1150i
| Nhà sản xuất | ASML |
|---|---|
| Người mẫu | TWINSCAN AT:1150i |
| Loại thiết bị | Máy quét in thạch bản ngâm ArF |
| Bước sóng phơi sáng | 193 nm |
| Khẩu độ số | ĐÓ LÀ 0,75 |
| Kích thước wafer | 300 mm |
| Tình trạng | Thiết bị bán dẫn đã qua sử dụng |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào tình trạng hàng tồn kho hiện tại và xác nhận cấu hình. |
