ASML TWINSCAN AT:1150i 是一款早期的浸沒式微影平台，它展示了投影透鏡和晶圓之間的超純水如何增加數值孔徑，將 193 nm ArF 光刻擴展到比乾式曝光更精細的圖案化。
其雙級 TWINSCAN 架構允許晶圓曝光和計量操作並行。當一個晶圓進行曝光時，另一個晶圓則進行對準、聚焦和套刻測量。這種方法提高了操作效率，同時保持了先進光刻製程所需的精確聚焦和套刻控制。
ASML AT:1150i 主要規格
| 製造商 | ASML |
|---|---|
| 模型 | TWINSCAN AT:1150i |
| 設備類型 | ArF浸沒式微影掃描儀 |
| 曝光波長 | 193奈米 |
| 數值孔徑 | 那0.75 |
| 晶圓尺寸 | 300毫米 |
| 狀態 | 二手半導體設備 |
| 可用性 | 以當前庫存和配置確認為準 |
