첨단 공정 노드에서는 웨이퍼 청결도가 매우 높은 수준으로 요구됨에 따라, TEL CELLESTA™-i MD는 탁월한 성능을 바탕으로 300mm 웨이퍼를 위한 신뢰할 수 있는 단일 웨이퍼 세척 솔루션으로 두각을 나타내고 있습니다.
TEL CELLESTA-i MD 300mm 단일 웨이퍼 세척 시스템은 다양한 식각 전 및 증착 후 세척 작업을 처리할 수 있습니다. 정밀 제어 화학 물질 공급 기술을 활용하여 미세한 웨이퍼 패턴을 손상시키지 않으면서 입자와 금속 오염 물질을 효과적으로 제거합니다. 대용량 첨단 반도체 제조 시설에 맞춰 설계된 이 플랫폼은 안정적인 생산성과 초저불량률을 보장합니다. 유연한 공정 레시피 구성으로 다양한 요구 사항에 쉽게 적응할 수 있어 생산 라인 통합 및 공정 마이그레이션을 간소화합니다.
생산 능력 확장이나 공정 업그레이드를 위해 검증되고 신뢰할 수 있는 300mm 습식 처리 장비를 찾고 계신다면, 자세한 내용과 경쟁력 있는 견적을 위해 저희에게 연락해 주십시오.
TEL CELLESTA™-i MD 기술 사양
| 매개변수 | 설명 |
|---|---|
| 장비 유형 | 단일 웨이퍼 세척 시스템 |
| 제조업체 | 도쿄 일렉트론(TEL) |
| 모델 | 셀레스타™-i MD |
| 웨이퍼 크기 | 300mm |
| 프로세스 유형 | 습식 웨이퍼 세척 |
| 주요 기능 | 입자 제거 및 표면 세척 |
| 애플리케이션 | 첨단 반도체 제조 |
| 목표 시장 | 논리, 메모리 및 첨단 반도체 제조 시설 |
