Memandangkan nod proses canggih memerlukan tahap kebersihan wafer yang luar biasa, TEL CELLESTA™-i MD menonjol sebagai penyelesaian pembersihan wafer tunggal yang andal untuk wafer 300mm, hasil daripada prestasinya yang unggul.
Sistem pembersihan wafer tunggal TEL CELLESTA-i MD 300mm mampu mengendalikan pelbagai tugas pembersihan pra-etsa dan pasca-pemendapan. Dengan menggunakan teknologi penghantaran kimia yang dikawal ketepatan, sistem ini berkesan menyingkirkan zarah dan bahan cemar logam sambil mengekalkan corak wafer yang halus. Direka untuk fabrik semikonduktor termaju bervolum tinggi, platform ini memastikan produktiviti yang stabil dan kadar kecacatan yang sangat rendah. Konfigurasi resipi prosesnya yang fleksibel mudah disesuaikan dengan pelbagai keperluan, memperkemas penyepaduan barisan pengeluaran dan migrasi proses.
Jika anda sedang mencari peralatan pemprosesan basah 300mm yang terbukti dan boleh dipercayai untuk mengembangkan kapasiti atau menaik taraf proses anda, sila hubungi kami untuk maklumat lanjut dan sebut harga yang kompetitif.
Spesifikasi Teknikal TEL CELLESTA™-i MD
| Parameter | Penerangan |
|---|---|
| Jenis Peralatan | Sistem pembersihan wafer tunggal |
| Pengilang | Tokyo Electron (TEL) |
| Model | CELLESTA™-i MD |
| Saiz Wafer | 300mm |
| Jenis Proses | Pembersihan wafer basah |
| Fungsi Utama | Penyingkiran zarah dan pembersihan permukaan |
| Permohonan | Pembuatan semikonduktor lanjutan |
| Pasaran Sasaran | Logik, memori dan fabrikasi semikonduktor termaju |
