เนื่องจากกระบวนการผลิตขั้นสูงต้องการความสะอาดของเวเฟอร์ในระดับที่ยอดเยี่ยม เครื่อง TEL CELLESTA™-i MD จึงโดดเด่นในฐานะโซลูชันการทำความสะอาดเวเฟอร์เดี่ยวที่เชื่อถือได้สำหรับเวเฟอร์ขนาด 300 มม. ด้วยประสิทธิภาพที่เหนือกว่า
ระบบทำความสะอาดเวเฟอร์เดี่ยว TEL CELLESTA-i MD ขนาด 300 มม. สามารถจัดการงานทำความสะอาดก่อนและหลังการตกตะกอนได้หลากหลายประเภท โดยใช้เทคโนโลยีการส่งสารเคมีที่ควบคุมได้อย่างแม่นยำ ระบบนี้สามารถกำจัดอนุภาคและสิ่งปนเปื้อนที่เป็นโลหะได้อย่างมีประสิทธิภาพ ในขณะเดียวกันก็รักษารูปแบบเวเฟอร์ที่ละเอียดอ่อนเอาไว้ ออกแบบมาสำหรับโรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงที่มีปริมาณการผลิตสูง แพลตฟอร์มนี้รับประกันประสิทธิภาพการผลิตที่เสถียรและอัตราข้อบกพร่องต่ำมาก การกำหนดค่าสูตรกระบวนการที่ยืดหยุ่นสามารถปรับให้เข้ากับความต้องการที่หลากหลายได้อย่างง่ายดาย ช่วยให้การบูรณาการสายการผลิตและการย้ายกระบวนการเป็นไปอย่างราบรื่น
หากคุณกำลังมองหาอุปกรณ์แปรรูปเปียกขนาด 300 มม. ที่ได้รับการพิสูจน์แล้วว่าเชื่อถือได้ เพื่อขยายกำลังการผลิตหรือยกระดับกระบวนการของคุณ โปรดติดต่อเราเพื่อขอรายละเอียดเพิ่มเติมและใบเสนอราคาที่แข่งขันได้
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิคของ TEL CELLESTA™-i MD
| พารามิเตอร์ | คำอธิบาย |
|---|---|
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบทำความสะอาดเวเฟอร์เดี่ยว |
| ผู้ผลิต | โตเกียว อิเล็กตรอน (TEL) |
| แบบอย่าง | เซลเลสต้า™-ไอ เอ็มดี |
| ขนาดเวเฟอร์ | 300 มม. |
| ประเภทกระบวนการ | การทำความสะอาดเวเฟอร์เปียก |
| หน้าที่หลัก | การกำจัดอนุภาคและการทำความสะอาดพื้นผิว |
| แอปพลิเคชัน | การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง |
| กลุ่มเป้าหมาย | ตรรกะ หน่วยความจำ และโรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง |
