高度なプロセスノードでは極めて高いレベルのウェーハ清浄度が求められる中、TEL CELLESTA™-i MDは、その優れた性能により、300mmウェーハ向けの信頼性の高いシングルウェーハ洗浄ソリューションとして際立っています。
TEL CELLESTA-i MD 300mmシングルウェーハ洗浄システムは、エッチング前および成膜後の幅広い洗浄作業に対応可能です。精密制御された薬品供給技術を採用することで、繊細なウェーハパターンを損なうことなく、微粒子や金属汚染物質を効果的に除去します。大量生産を行う先進半導体製造工場向けに設計されたこのプラットフォームは、安定した生産性と極めて低い不良率を実現します。柔軟なプロセスレシピ構成により、多様な要件に容易に対応でき、生産ラインへの統合やプロセス移行を効率化します。
生産能力の拡大やプロセスのアップグレードのために、実績があり信頼性の高い300mm湿式処理装置をお探しでしたら、詳細情報とお見積もりについて、ぜひ当社までお問い合わせください。
TEL CELLESTA™-i MD 技術仕様
| パラメータ | 説明 |
|---|---|
| 機器の種類 | シングルウェハ洗浄システム |
| メーカー | 東京エレクトロン（TEL） |
| モデル | CELLESTA™-i MD |
| ウェハーサイズ | 300mm |
| プロセスタイプ | 湿式ウェーハ洗浄 |
| 主な機能 | 粒子除去と表面洗浄 |
| 応用 | 先進的な半導体製造 |
| 対象市場 | ロジック、メモリ、および先端半導体製造工場 |
