เดอะ หน้าจอ SU-3200 ระบบทำความสะอาดเวเฟอร์แบบแผ่นเดียวนี้รองรับกระบวนการทำความสะอาดแบบเปียกสำหรับเวเฟอร์ขนาด 300 มม. ด้วยปริมาณงานที่น่าประทับใจและประสิทธิภาพการทำงานที่แข็งแกร่ง การทำความสะอาดเวเฟอร์แบบแผ่นเดียวจะแยกแต่ละแผ่นวัสดุออกจากกัน ป้องกันการปนเปื้อนข้ามที่มักเกิดขึ้นในกระบวนการทำความสะอาดแบบเป็นชุด
ระบบนี้กำจัดอนุภาคขนาดเล็ก สารอินทรีย์ และคราบโลหะ ในขณะที่ยังคงรักษารูปแบบที่บอบบางและฟิล์มบางไว้ได้ มีความยืดหยุ่นในการใช้งานร่วมกับสูตรการผลิตต่างๆ ครอบคลุมขั้นตอน FEOL, BEOL และขั้นตอนการบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง ระบบรักษาความเสถียรในการทำงานอย่างต่อเนื่อง ลดระดับข้อบกพร่อง และสนับสนุนผลผลิตที่สม่ำเสมอสำหรับสายการผลิตเวเฟอร์ของคุณ
ข้อมูลทางเทคนิคของ SCREEN SU-3200
| พารามิเตอร์ | คำอธิบาย |
|---|---|
| ผู้ผลิต | SCREEN Semiconductor Solutions |
| แบบอย่าง | SU-3200 |
| ประเภทอุปกรณ์ | ระบบทำความสะอาดแบบเปียกสำหรับเวเฟอร์เดี่ยว |
| ขนาดเวเฟอร์ | 300 มม. |
| วิธีการประมวลผล | การทำความสะอาด ล้าง และทำให้แห้งเวเฟอร์ทีละแผ่น |
| การกำหนดค่าห้องสูงสุด | ห้องกระบวนการสูงสุด 12 ห้อง ขึ้นอยู่กับการกำหนดค่า |
| อัตราการประมวลผลสูงสุด | สามารถผลิตเวเฟอร์ได้สูงสุด 800 ชิ้นต่อชั่วโมง ขึ้นอยู่กับสภาวะการผลิต |
| การจัดการเวเฟอร์ | ระบบโหลด ถ่ายโอน ประมวลผล และขนถ่ายเวเฟอร์อัตโนมัติ |
| การจัดหาสารเคมี | ระบบนำส่งสารเคมีที่ขึ้นอยู่กับการกำหนดค่า |
| การควบคุมกระบวนการ | สูตรการทำความสะอาด การล้าง การจ่ายสารเคมี และการทำให้แห้งที่ตั้งโปรแกรมได้ |
| การใช้งานหลัก | กระบวนการทำความสะอาดเวเฟอร์ขั้นสูง เช่น ตรรกะ หน่วยความจำ การกัดหลังการผลิต การลอกหลังการผลิต และกระบวนการที่เกี่ยวข้อง |
รายละเอียดเฉพาะอาจแตกต่างกันไปตามปีที่ผลิตเครื่องจักร การกำหนดค่าฮาร์ดแวร์ จำนวนห้อง โมดูลสารเคมี เวอร์ชันซอฟต์แวร์ ตัวเลือกจากโรงงาน และการใช้งานก่อนหน้า
ควรตรวจสอบป้ายชื่ออุปกรณ์ รายการกำหนดค่า ข้อกำหนดของสถานที่ และสภาพการใช้งานปัจจุบันก่อนทำการซื้อ
